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股票代码:688082 | 短名称:ACMSH |
投资者的类别
关系活动
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☐ 特定物体调查
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☐ 分析师会议 | ||
☐ 媒体采访
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✓ 业绩简报 | |||
☐ 新闻发布会
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☐ 路演 | |||
☐ 实地考察 |
✓ 其他(打开电话会议) | |||
日期
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2023 年 8 月
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地点
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电话会议
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的参与者
上市公司
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主席:王辉
总经理:王健
财务事务负责人:易丽莎陆峰
董事会秘书:罗明珠
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投资者摘要
关系活动
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一、公司介绍:ACM Research(上海)有限公司
(“公司”)的领导简要介绍了公司2023年上半年的业绩和财务状况,并回答了投资者关注的问题。
二。问答:
1。今年上半年,国内外先进的
包装的新客户是否有所增加?此外,上半年先进封装电镀设备的国外新客户是否有所扩大?海外市场的未来发展如何?
答:我们在先进封装领域拥有相对完整的产品线,包括电镀设备、糊盒机、
显影机、湿式蚀刻机、湿式剥离器、金属分离器、SFP 先进封装平坦化设备和清洁剂。2023年上半年,封装和后端设备的总增长率约为47%,铜
电镀设备也经历了快速增长。这主要是由于我们努力确保我们在中国镀铜设备市场的领先地位,而且还努力在国际市场上推广差异化设备,包括前端和
后端设备。
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我们相信,我们在扩大海外市场的影响力方面取得了良好的进展。除了我们的清洁设备外,我们
正在全球范围内积极推广镀铜设备。我们认为,这项工作与GPT和AI的快速发展非常吻合,我们认为这需要大量的先进封装设备。因此,我们
预计全球市场的发展前景广阔。另一个令人鼓舞的趋势是,中国国内大型半导体制造商
越来越多地使用前端电镀设备,例如TSV和大马士革电镀。我们已经收到了这方面的有意义的订单,我们认为这证实了国内对更先进的封装技术的兴趣,这反过来又为我们的电镀设备带来了巨大的增长机会。
2。公司新ALD产品的开发进展如何?逻辑电路和存储等中现有 ALD 产品的验证和
更新怎么样?
答:事实上,我们认为 ALD 代表了技术发展的未来趋势。我们更加重视原子层沉积,
,特别是其炉管,这主要是因为它们具有很大的生产能力,能够在各种工艺中同时处理至少 50 件、100 件甚至更多件。但是,ALD 也带来了挑战,
主要是在保持均匀性和管理化学载体方面。它被广泛应用于存储、高级流程和其他领域。我们已经成功地向客户验证了这方面的两款产品。
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将来,我们计划通过差异化的技术产品在市场上竞争。例如,关于炉管,我们
有特殊的设计来提高原子层沉积的均匀性、粒径和使用效率。至于我们的原子层沉积产品,在中国国内市场不断扩张的同时,我们也非常重视国际
市场,目的是通过国内和国际市场的努力,向海外客户介绍我们差异化的炉管原子层沉积技术。
3.该公司公布的去年第三季度数据显示,
的订单同比增长超过100%。公司的交付速度通常在每年上半年放缓,下半年的交付速度是否更加集中?公司有具体的交付速度吗?
答:我们的交付速度受各种因素的影响,包括市场扩张和供应链状况。总体而言,我们的
出货量在下半年呈上升趋势。从供应链的角度来看,尽管一些零件仍然供不应求,但零件的供应与去年相比有所改善。因此,在
的下半年,我们预计我们的交付时间表将在很大程度上取决于供应链管理和持续市场扩张的进展。
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4。该公司的清洁设备,包括单晶圆设备、湿式工作台设备和先前推出的一些独特的
设备,在第二季度显示出显著增长。至于产品结构,哪种类型的产品对这种增长的贡献最大?
答:三年前,我们的清洁设备主要集中在单晶圆解决方案上。随着我们近年来对湿式工作台
设备的研发投资,我们的湿式工作台设备现在涵盖了广泛的工艺,包括清洁、剥离和更先进的 3D 封装。我们认为,在未来
成熟工艺中,湿式工作台设备具有巨大的扩展潜力。因此,我们第二季度清洁设备的增长主要是由湿式工作台设备的扩张推动的。在未来的几年中,我们打算继续我们的双轨发展战略,
扩大单一水处理设备,同时推进超临界二氧化碳干燥清洁,我们认为只有三家公司拥有这项技术。此外,凭借我们的独立知识产权和独特的技术,我们能够将二氧化碳的使用量减少大约 40%。我们计划将这种设备引入国内和国际市场。值得注意的是,我们的超声波清洁设备与二氧化碳干燥相结合,可以在不造成损坏的情况下有效清洁小型结构,
同时还能实现干燥,我们认为前景看好。
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5。如果中国在未来几年将重点放在成熟的流程上,这将对公司清洁设备的收入结构
产生什么影响?公司第二季度的收入结构如何?
答:中国的成熟工艺主要分为两部分,28纳米以下和45纳米以上。对于 28 纳米以下的
,我们估计大约 80% 用于单晶圆清洁,对于大于 45 纳米的晶片,我们估计大约 80% 用于湿式工作台清洁。因此,即使在成熟的工艺中,我们预计
单晶圆清洗设备和湿式工作台清洗设备也将有很大的发展前景。将来,我们预计我们的清洁设备将保持单晶圆设备和湿台设备
共同生长的结构。
6。公司电镀设备的出货量或因此
的收入确认是否主要集中在下半年?它的发展速度如何?
答:就我们的电镀设备而言,我们主要处于新客户扩张阶段。相关的收入
确认可能需要一些时间,我们预计将在今年下半年或明年进行。至于电镀设备的出货量,一两年前,我们的出货组合主要是先进的封装设备,
从今年开始,它已转向主要满足前端设备的需求。
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7。对公司去年第四季度在客户方面推出的Track和PECVD设备的验证效果如何?什么时候才能投入批量生产?公司获得新客户了吗?
答:我们的轨道设备于去年年底推出,进展良好。但是,由于它是第一批设备,
在早期验证期间出现了一些例行问题。我们的团队正在积极与客户和制造商合作,以解决这些问题。我们希望该设备能够在
年底之前进入小规模验证生产阶段。从较高的基准开始,我们的跟踪设备旨在实现每小时300件甚至更高的生产能力。
在 PECVD 设备方面,我们在与客户的沟通和开发方面也取得了良好的进展,一些
基本问题已经得到解决。将来,我们计划考虑拥有两种类型的客户:逻辑电路和存储器。同时,我们认为,与全球
竞争对手目前的产品相比,我们的PECVD设备具有独特的优势。我们打算使用我们的差异化技术来满足客户对PECVD的更高要求,并在均匀性、粒径、薄膜应力和输出之间实现平衡。PECVD 对
我们来说是一个重大机遇,我们计划开展大量的研发和营销工作,将其推向市场。我们预计PECVD至少要到明年才能为我们提供销售贡献,而是预计在
2025年或2026年会做出更有意义的贡献。我们相信,我们新的Track和PECVD平台为我们实现未来3至5年的长期增长目标提供了良好的机会。
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8。与先进封装电镀产品相关的订单的收入何时会得到确认?
何时会正式转换为收入?
答:我们的电镀产品相对成熟。回头客通常在安装产品时接受产品,而对于
初次购买的客户,接受通常是在审查了每个流程之后才接受的,因此需要更多时间。
9。鉴于
下半年的展望,公司全年毛利率预期是否需要提高?
答:我们的毛利率经历季节性波动,与产品组合有关。我们的总体毛利率因设备类型而异
,但我们的目标总体上仍在40%至45%之间。
10。公司的PECVD设备和海外设备之间的结构差异是什么?
答:PECVD 涵盖了广泛的应用,通常适用于中高端的应用。我们根据客户需求,从
三个关键点(即均匀性、粒径和应力)对设备进行了升级,并从设备技术、输出和尺寸等方面优化并推出了设备的新架构。我们牢记,
我们的产品需要与国际公司的产品区分开来才能超越它们。这就是我们不断努力实现差异化的原因。
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11。在中国许多
公司可以制造湿式工作台设备毛利率的背景下,公司的长期前景如何?
答:湿式工作台设备的毛利率通常低于单晶圆设备的毛利率,我们预计对半关键工具的竞争将持续或
甚至加剧。也就是说,设备的可靠性和工艺特性也是长期使用半导体设备的重要因素。出于最大化产出和
实现工艺正常化的愿望,我们认为,中国半导体设备的国内客户在对低价格的渴望与性能相关因素之间取得平衡,这些因素包括设备的长期稳定性、未来
技术开发的能力以及解决工艺问题的能力。
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12。公司的电镀设备是否有可用于高级封装的工艺?
答:我们的先进封装电镀设备支持各种电镀工艺,包括铜、镍、锡
银和金电镀。它还扩展到包括第三代半导体电镀,这是一种相对较新的工艺,已在客户方面进行了部分验证。此外,来自台湾地区
的客户去年开始为其大陆工厂购买我们的电镀设备,随后多次下订单。将来,我们可能有机会将我们的电镀设备推向
台湾地区的市场,并希望将其进一步扩展到韩国、美国、欧洲和其他全球市场的市场。
13。上半年清洁设备同比增长约26%
是否源于收入确认结构?
答:是的。我们在中国的清洁设备销售额增长了约26%,我们预计将继续增长。
我们预计,未来整个清洁设备市场仍将是我们主要业务的关键部分。目前,除了湿式工作台设备外,我们采用高温硫酸
酸和超临界二氧化碳干燥等技术的先进清洁设备也正在推向市场。因此,在清洁设备方面,我们希望未来在中国的市场份额约为55%至60%,而目前的水平约为25%
至30%。此外,在评估中国国内清洁设备市场的同时,我们还专注于国际市场。
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14。公司研发投资的高峰期已经过去了吗?未来的研发
投资比例会相对下降吗?
答:我们的绝对研发投资持续增长,预计未来相对比例将保持在总销售额的大约
14%至15%之间。
15。该公司在临港的项目正处于封顶阶段。内部装饰和其他工作
完成了吗?该项目能在明年完成吗?
答:该项目主要分为两部分。第一工厂是现阶段的重点,预计将在今年年底前开始试产
。整个项目预计将在今年年底前完成,包括研发实验室和二号工厂,我们计划逐步投入使用。
此外,研发洁净室计划于今年完工,预计将于明年第一季度投入使用
。这将使我们能够拥有与客户同等水平的洁净室,我们相信这将极大地改善我们的研发条件。因此,我们希望能够在向客户交付新产品和改进的技术
之前对其进行验证,从而显著提高我们的研发进度。
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