EUV技术的可扩展性具有持续的成本效益，有望使客户进一步从多重曝光，转向使用EUV的单次曝光工艺，包括低数值孔径(0.33NA)和高数值孔径(0.55NA)，以支持先进逻辑逻辑芯片、DRAM芯片的发展。快科技11月15日消息，ASML在近日舉辦的2024年投資者日會議上，更新了長期戰略以及全球市場和技術趨勢分析，確認其到2030年的年收入將達到約440億至600億歐元(約合人民幣3355億元至4575億元)，毛利率約爲56％至60％。
ASML總裁兼首席執行官傅恪禮(Christophe Fouquet)預計，在下一個十年，ASML有能力將EUV極紫外光刻技術推向更高水平，充分參與和抓住AI機遇，實現顯著的營收和盈利增長。
ASML認爲，EUV光刻機的銷售在2030年前將有巨大的上升空間。
EUV技術的可擴展性具有持續的成本效益，有望使客戶進一步從多重曝光，轉向使用EUV的單次曝光工藝，包括低數值孔徑(0.33NA)和高數值孔徑(0.55NA)，以支持先進邏輯邏輯芯片、DRAM芯片的發展。
ASML預測，EUV光刻機需求的年複合增長率將達到兩位數(即超過10％)。
