投資要點
2024 年11 月7 日,盛美上海發佈關於自願披露2024 年度經營業績預測調整的公告。
再次上調全年營收預期,24Q4 營收有望續創新高
隨着年末臨近,公司對全年業務情況進行了更爲詳實的評估。基於目前在手訂單執行進度、產品交付計劃以及客戶驗收安排,公司對年底前能夠完成交付並取得客戶驗收的設備數量形成了更爲清晰的預期。因此,公司將2024 年全年營收預測區間上調爲56.00~58.80 億元,此前預期爲53~58.80 億元。以此計算,24Q4 公司預計實現營收16.23~19.03 億元, 同比增長42.40%~66.96% , 環比增長3.22%~21.02%,有望再創歷史新高。
24Q3 公司實現營收15.73 億元,同比增長37.96%,環比增長6.09%,主要系1)受益於中國半導體行業設備需求持續旺盛,公司憑藉技術優勢、產品成熟度和市場認可度,收入持續增長;2)公司在新客戶拓展和新市場開發方面取得顯著成效,成功打開新市場並開發多個新客戶;3)公司新品逐步獲得客戶認可。歸母淨利潤3.15 億元,同比增長35.09%,環比減少13.22%;扣非歸母淨利潤3.06 億元,同比增長31.41%,環比減少12.54%;毛利率45.09%,同比減少10.27 個百分點,環比減少8.30 個百分點。
產品覆蓋約200 億美元市場,盛美臨港順利投產預計將實現百億產值
盛美堅持「技術差異化」和「產品平台化」戰略,成功布局七大板塊產品,分別是清洗設備、電鍍設備、先進封裝溼法設備、立式爐管設備、塗膠顯影設備、PECVD設備和麪板級封裝設備,可覆蓋市場約200 億美元。作爲清洗和電鍍設備的龍頭企業,盛美清洗設備已覆蓋了95%工藝步驟應用,電鍍設備實現技術全覆蓋,所有產品都具有自主知識產權,擁有多項原創技術,例加兩代兆聲波清洗技術和單片槽式組合清洗技術全球領先,多陽極電鍍技術達到國際先進水平。立式爐管系列設備已批量進入多家客戶生產線,塗膠顯影Track 設備也已進入客戶端正在驗證中,等離子體增強化學氣相沉積PECVD 設備正在研發中。此外,面板級封裝是AI 芯片未來發展的必由之路,盛美已率先推出面板級電鍍、負壓清洗和邊緣刻蝕三款設備。
2024 年10 月,盛美設備研發與製造中心落成並正式投產。該項目共有5 個單體,包含兩座研發樓、兩座廠房和一座輔助廠房,總建築面積13.8 萬平方米。其中廠房面積4 萬平方米,共有兩座廠房A 和B。僅廠房A 的產能就完全可以達到現有川沙工廠的產能,年產可實現300-400 台,年產值可達50 億元以上,且還有提升潛力。到2025 年廠房B 裝修完畢投入使用後,預計實現兩座廠房百億產值。目前,首臺量測設備KLA-Tencor Surfscan SP7 已入駐研發潔淨室,可將公司量測能力提升至1x nm。
2024 年11 月11 日,公司發佈向特定對象發行股票證券募集說明書(申報稿),擬募集資金總額不超過45 億元,其中研發和工藝測試平台建設項目和高端半導體設備迭代研發項目擬使用募集資金投資金額分別爲9.40 和22.55 億元,13.04 億元用於補充流動資金。通過研發和工藝測試平台建設項目,公司將借鑑國際半導體設備龍頭企業設立自有工藝測試試驗線的經驗,引入必需研發測試儀器以及光刻機、CMP、離子注入機等外購設備,並結合自制的多種工藝設備,搭建自有的研發和工藝測試平台,以完善公司研發測試環節的產業佈局,提升研發實力,加速推動公司平台化戰略目標的實施。公司將通過高端半導體設備迭代研發項目加大研發投入,持續推動產品迭代升級和立式爐管設備、塗膠顯影Track 設備和等離子體增強化學氣相沉積PECVD 設備三款新產品研發。
投資建議:鑑於公司訂單交付順利、新品逐步獲得客戶認可,我們上調此前對公司的業績預測。預計2024 年至2026 年,公司營收分別爲56.77/70.39/84.47 億元(前值爲54.00/65.01/78.54 億元),增速分別爲46.0%/24.0%/20.0%;歸母淨利潤分別爲11.42/15.20/18.90 億元(前值爲11.19/14.11/17.81 億元),增速分別爲25.4%/33.1%/24.3%;PE 分別爲45.1/33.9/27.2。公司作爲清洗設備、電鍍設備的龍頭企業,秉承技術差異化、產品平台化、客戶全球化的戰略,正朝着平台型半導體設備集團轉型,顯著受益於下游客戶產能持續擴張。持續推薦,維持「增持」評級。
風險提示:下游終端市場需求不及預期風險,新技術、新工藝、新產品無法如期產業化風險,市場競爭加劇風險,系統性風險等。