本報告導讀：
受益於關鍵內資產線擴產拉動以及技術不斷取得新突破，國產CVD 設備市場需求將不斷增大。
摘要：
投資建議。受 益於關鍵內資產線擴產拉動以及技術不斷取得新突破，國產設備市場需求將不斷增大。推薦設備龍頭中微公司(688012.SH)及北方華創（002371.SZ）。同時清洗設備龍頭盛美半導體（ACMR.O）、芯源微（688037.SH）、瀋陽拓荊、華海清科、北京屹唐以及上海微電子也受益產業發展。
CVD 設備包括大氣壓化學氣相沉積APCVD 設備、低壓化學氣相沉積LPCVD 設備、等離子化學氣相沉積PECVD 設備、原子層沉積ALD 設備以及MOCVD 設備等。其中PECVD 設備是目前應用最廣泛的類型，其約佔37%的市場份額；而ALD 設備更適用於在複雜的表面形狀和高深寬比結構中生長超薄薄膜。MOCVD 設備屬於泛半導體設備，其主要用於製備半導體光電子、微電子器件領域的各種砷化鎵、氮化鎵等三五族化合物。
全球CVD 設備市場規模不斷增長，內資產線擴產拉動國產設備需求。根據集邦諮詢數據，全球半導體CVD 設備市場規模在2017 年約爲83.7 億美元，預計到2023 年可以達到89.4 億美元。其中ALD設備市場需求將明顯加大，其在2017 年爲11 億美元，並有望在2023年達到23 億美元，佔CVD 設備總市場份額也將從2017 年13%提升到25%。隨着內資產線的不斷擴產，關鍵內資產線2020 年CVD 設備需求空間可以達到80 億元。
國外廠商主導市場，國內廠商加速突破。CVD 設備市場主要被AMAT、LAM、TEL 等國外廠商所瓜分，以上三家約佔全球市場份額的70%。但是國內廠商也不斷實現突破。在LED 芯片領域，中微半導體的MOCVD 在國內已實現國產替代。北方華創先後完成了PECVD、APCVD、LPCVD、ALD 等設備的開發，其ALD 設備目前已經進入28nm 產線，並且在主流代工廠14nm 產線進行驗證。瀋陽拓荊擁有12 英寸PECVD、ALD、3D NAND PECVD（三維結構閃存專用PECVD 設備）三個完整系列產品，目前已中標長江存儲與華虹系產線共計約10 臺CVD 設備。
風險提示。設備公司新產品開發及驗證進度不及預期的風險；下游產線資本支出不及預期帶來的風險；中美貿易摩擦的不確定性的風險。