这里首先需要解释一下，佳能的纳米压印光刻（NIL）系统，与阿斯麦的光刻技术有什么区别。①與阿斯麥的技術路線不同，佳能的芯片製造設備直接把電路「壓在」光刻膠上；②這種設備據稱功耗只需要傳統光刻機的十分之一，還有一次成型三維電路等優勢；③佳能希望未來3-5年內能實現每年出貨10-20台。
財聯社9月27日訊（編輯 史正丞）全球光刻機產業終於迎來了一個有些「不一樣」的新產品——日本佳能公司本週宣佈，成功交付首臺新一代納米壓印光刻機。
（來源：佳能公司官網）
這裏首先需要解釋一下，佳能的納米壓印光刻（NIL）系統，與阿斯麥的光刻技術有什麼區別。
傳統的光刻機通過將電路圖案投影到塗有光刻膠的晶圓上來轉移電路圖案，佳能的設備則是通過將「印有電路圖案的掩模像印章一樣壓入晶圓上的光刻膠中」來生產芯片。由於電路圖案的轉移不需要通過光學機制，掩模上的精細電路圖案可以在晶圓上忠實再現。
佳能在去年十月發佈了全球首臺商業化納米壓印光刻系統FPA-1200NZ2C，公司表示這款設備可以實現最小線寬爲14納米的電路圖案，相當於當前生產先進邏輯半導體用到的5納米節點。
關鍵優勢是便宜
佳能表示，相較於傳統光刻機需要複雜的光學鏡片構造，納米壓印設備的構造更爲簡單，功耗僅需十分之一。同時還能通過單次壓印形成複雜的三維電路圖案，能夠處理用於最先進邏輯芯片的極細電路。
這條芯片製造路線的開發從2014年啓動。去年底開始，佳能與鎧俠 (Kioxia)、大日本印刷合作開始銷售這款設備。
這次交付的首臺設備將被送往美國得克薩斯電子研究所。這是得克薩斯大學奧斯汀分校支持的一個團體，成員包括英特爾和其他芯片公司、公共部門和學術組織。這台設備將被用於芯片製造的研究與開發工作。
佳能光學產品副首席執行官Kazunori Iwamoto對媒體表示，公司計劃在未來3-5年內，每年銷售10-20台此類設備。
對於佳能來說，進一步推廣納米壓印技術也存在一些挑戰。首先由於「壓印」的物理機制，這種光刻機需要更先進的技術防止細小的塵埃顆粒造成芯片缺陷。同時由於芯片製造涉及廣泛的產業鏈，拓展更多公司、特別是材料企業加入「納米壓印產業鏈」對於佳能來說也非常重要。