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晶盛机电(300316):突破减薄机超薄晶圆加工技术 半导体先进封装领域加速布局

晶盛機電(300316):突破減薄機超薄晶圓加工技術 半導體先進封裝領域加速佈局

東吳證券 ·  08/14

事件:近日,晶盛機電自主研發的新型WGP12T 減薄拋光設備成功實現了穩定加工12 英寸30μm 超薄晶圓。

晶圓呈現超薄化趨勢,對減薄機提出更高要求:器件小型化要求不斷降低芯片封裝厚度,超薄晶圓也因其高集成度、低功耗和優異性能,成爲當前半導體產業發展的關鍵材料之一。因此晶圓超薄化是必然趨勢。一般較爲先進的多層封裝(如2.5D、3D 封裝)所用的芯片厚度都在100μm 以下甚至30μm 以下,但超薄晶圓呈現柔軟、剛性差、實質脆弱等特點,對減薄機的精度、工藝控制等方面提出極高的要求。

日本DISCO 和東京精密爲全球晶圓減薄機龍頭,2022 年CR2 達68%:

2023 年我國進口研磨機金額爲4.4 億美元,同比+16%,2017-2023 年CAGR 爲18%。2024H1,我國進口減薄機的均價約450 萬元人民幣/台,接近國產減薄機價格的1.5 倍。全球減薄設備主要由日本企業主導,主要包括日本DISCO、東京精密、G&N 等,2022 年CR2、CR3 分別達68%和85%,其中DISCO 份額最高,佔據全球主導地位。2023 財年,DISCO 實現營收145 億元人民幣,同比+8%,其中來自中國大陸的收入佔36%;分產品看,劃片機和減薄機爲DISCO 的主要產品,收入佔比分別爲32%和28%。DISCO 擁有TAIKO 優勢減薄工藝,其暢銷機型DGP8760 的升級款DGP8761 型減薄機可高效穩定地實現厚度在25μm以下的晶圓減薄加工。

晶盛成功突破12 英寸30μm 超薄晶圓的高效、穩定減薄技術,未來晶圓減薄機產品放量可期:近期,晶盛機電對其自主研發的新型WGP12T減薄拋光設備進行一系列的技術優化和工藝流程改進後,使晶圓在設備上能減薄拋光至30μm 厚度以下,確保晶圓的表面平整度和粗糙度的同時,成功解決了超薄晶圓減薄加工過程中出現的變形、裂紋、污染等難題,真正實現了30μm 超薄晶圓的高效、穩定的加工技術,大大提升了公司在全球晶圓減薄機市場中的競爭力。未來在先進封裝擴產帶動下,公司的晶圓減薄機有望快速放量。

晶盛半導體設備定位大硅片、先進封裝、先進製程、碳化硅:(1)大硅片設備:晶盛機電爲國產長晶設備龍頭,能夠提供長晶、切片、研磨、拋光整體解決方案;(2)先進封裝:已佈局晶圓減薄機,並突破12 英寸30μm 超薄晶圓的高效、穩定減薄技術;(3)先進製程:開發了8-12英寸減壓硅外延設備、LPCVD 以及ALD 等設備;(4)碳化硅外延設備:開發了6-8 英寸碳化硅長晶設備、切片設備、減薄設備、拋光設備及外延設備,8-12 英寸常壓硅外延設備等,推出雙片式碳化硅外延設備。

盈利預測與投資評級:光伏設備是晶盛機電成長的第一曲線,第二曲線是光伏耗材和半導體耗材的放量,第三曲線是碳化硅設備+材料和半導體設備的放量。我們維持公司2024-2026 年歸母淨利潤爲56/65/73 億元,對應PE 爲7/6/5 倍,維持「買入」評級。

風險提示:下游擴產低於預期,新品拓展不及預期。

譯文內容由第三人軟體翻譯。


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