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高速非破壊X線検査用 業界最高水準の高輝度・高耐久シンチレータパネルの販売開始-従来課題の輝度劣化メカニズムを解明・新技術適用-

開始銷售用於高速非破壞性X射線檢查的業界最高水平的高亮度和耐久性閃爍體面板。解決了傳統問題的亮度退化機制並應用了新技術。

東麗 ·  07/02 23:00

東麗工業股票型公司(總部位於東京中央區、代表董事社長:大矢光雄,以下簡稱“東麗”)於此次開發了高耐久的短殘光閃爍體面板,用於加速非破壞性X射線檢測1)和提高可操作性,並從2024年6月開始面向國內外銷售。

非破壞性X射線檢測被廣泛採用作爲保證食品、半導體、電子部品等產品的質量,並保證當存在質量問題或異物混入等情況時社會基礎設施的正常運行、汽車事故、健康危害等的手段。此外,根據以下三大因素:①檢測設備市場的增長②檢測對象品種的擴大③採用全數檢測的在線化,預計X射線檢測設備市場將以每年約10%的高增長率增長。近年來,隨着檢測數量的增加,需要加快檢測速度。

要加速檢測,可以將產品或相機高速移動並進行高速成像,以縮短每個產品的檢測時間。然而,在使用通用GOS:Tb熒光體的閃爍體面板時,會出現模糊的圖像(參見圖1)和其他問題。通過採用殘光4)較短的GOS:Pr熒光體5),圖像更加清晰,但是也存在着低亮度的GOS:Tb熒光體的問題。此外,非破壞性高速X射線檢測往往需要24小時連續運行,這增加了X射線照射造成的閃爍體面板亮度損失,並減少了更換X射線探測器的週期。

此次,東麗成功地將高反射率薄膜用於基板,將閃爍體面板的初始亮度6)最大提高了21%(請參見表1)。此外,通過解析並對抗導致亮度損失的原因,我們成功地提高了我們的初始亮度7),與傳統技術相比最高提高了30%(請參見圖1)。

通過將這兩種技術:高亮度化和亮度損失抑制相結合,我們實現了一種高耐久的閃爍體面板,用於高速非破壞性X射線檢測,產品價值得到了客戶的認可,因此開始銷售。


表1: 我們的閃爍體面板的初始亮度比較

我們的閃爍體比較

傳統技術

新技術

與傳統技術相比

熒光體

GOS:Pr

初始亮度 @ 400μm 厚度

100%

121%

提高了21%

  • 初始亮度:在我公司擁有的設備上,在管電壓70kV/無附加濾光片的條件下測量的結果。描述的相對值是參考傳統技術的初始亮度。
  • 加速測試後的亮度:我們公司擁有的設備在初期亮度測量之後,經過60 kV的X射線照射並累積1.1 MGy後的50天亮度值。用於描述兩種技術的相對值都是相對於初始亮度爲100%。


圖1: 我們的閃爍體面板經過加速試驗的亮度變化

圖1 X射線內聯檢測高速傳送時的成像圖像(由東麗工業獲得)
電子元器件在輸送速度爲90m/分時的成像圖像

GOS:Tb熒光體
GOS:Pr熒光體

東麗工業正在開發和提供新的X射線閃爍體面板產品,以保持在這一領域的領先地位,並通過創造新價值來實現企業理念,即“通過創造新價值爲社會做出貢獻”,繼續努力創造改變社會本質的革新材料。


以上


<詞語解釋>

1)非破壞性X射線檢測
通過檢測透射的X射線量的差異來檢測內部缺陷或損傷,而不需要拆解被檢測物體。

2)短閃爍閃爍體面板
將X射線激發後發出熒光(閃爍)光的物質,取其殘留光直到其發光量達到一定量爲止,並製作成面板形狀的閃爍體。

3)GOS:Tb
鈰鏑摻雜硫化鏑。作爲一種熒光體,它吸收X射線並將其轉化爲可見光,是一種通用材料。

4)殘留光
在X射線照射停止後殘留的發光。殘留光亮度/初期亮度與衰減時間,即衰減時間和殘餘光度/初始光度的比例,是指標。

5)GOS:Pr
鐠摻雜的硫化鏑。作爲一種熒光體,吸收X射線並將其轉化爲光,但比GOS:Tb具有更短的殘留光。

6)初始亮度
本公司製造的厚度爲400μm的產品在70kV/無附加過濾器的條件下測得的亮度結果。以傳統技術爲100%時的相對值描述。

7)加速試驗後的亮度
本公司機器測量初始亮度後,再經過60kV累計照射1.1MGy的X射線,50天后的亮度值。以初始亮度100%時的相對值和差異描述。

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譯文內容由第三人軟體翻譯。


以上內容僅用作資訊或教育之目的,不構成與富途相關的任何投資建議。富途竭力但無法保證上述全部內容的真實性、準確性和原創性。
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