06月27日，光刻機概念盤中跳水，截至09點38分，光刻機概念整體指數下跌0.62%，報1438.960點。
從個股上來看，該概念的成分股中，大族激光跌0.89%，茂萊光學、賽微電子、波長光電跌幅居前。
從資金上來看，截止發稿，光刻機概念主力淨流入爲-5169.21萬，其中晶方科技受到資金熱捧，主力淨流入423.58萬；拉長時間線來看，該板塊近20日主力資金淨流入-24.75億。
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