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拓荆科技公布国际专利申请:“通过CVD方法形成高质量膜的方法”

拓荊科技公佈國際專利申請:“通過CVD方法形成高質量膜的方法”

證券之星 ·  06/16 04:34

證券之星消息,根據企查查數據顯示拓荊科技(688072)公佈了一項國際專利申請,專利名爲“通過CVD方法形成高質量膜的方法”,專利申請號爲PCT/CN2023/134670,國際公佈日爲2024年6月13日。

專利詳情如下:

圖片

圖片來源:世界知識產權組織(WIPO)

今年以來拓荊科技已公佈的國際專利申請2個,較去年同期增加了100%。結合公司2023年年報財務數據,2023年公司在研發方面投入了5.76億元,同比增52.07%。

數據來源:企查查

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