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晶合集成获得发明专利授权:“一种图像传感器及其制备方法”

晶合集成獲得發明專利授權:“一種圖像傳感器及其製備方法”

證券之星 ·  06/15 02:22

證券之星消息,根據企查查數據顯示晶合集成(688249)新獲得一項發明專利授權,專利名爲“一種圖像傳感器及其製備方法”,專利申請號爲CN202410374098.0,授權日爲2024年6月14日。

專利摘要:本發明提供一種圖像傳感器及其製備方法,製備方法包括以下步驟:提供襯底,襯底上依次形成有金屬結構層、硬掩模複合層和第一TEOS層,硬掩模複合層依次包括氧化物層和氮化物層;刻蝕第一TEOS層,刻蝕停止在氮化物層中,以形成開口;採用氮化物層對氧化物層高刻蝕選擇比的刻蝕工藝,在開口處刻蝕所述氮化物層;採用不含氟元素的刻蝕氣體,在開口處幹法刻蝕所述氧化物層,以通過在金屬結構層和第一TEOS層之間增設硬掩模複合層,以將刻蝕第一TEOS層時的刻蝕停止層從現有的氮化鈦層表面調整至氮化物層中,使得刻蝕第一TEOS層時刻蝕氣體並沒有氮化鈦接觸,不會產生副產物,同時在刻蝕氧化物層時採用不含氟元素的刻蝕氣體,避免生成副產物,並不會出現金屬刻蝕缺陷。

今年以來晶合集成新獲得專利授權163個,較去年同期增加了87.36%。結合公司2023年年報財務數據,2023年公司在研發方面投入了10.58億元,同比增23.39%。

數據來源:企查查

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