證券之星消息，根據企查查數據顯示晶合集成（688249）新獲得一項發明專利授權，專利名爲“光阻圖形的形成方法”，專利申請號爲CN202410194519.1，授權日爲2024年5月17日。
專利摘要：本發明提供了一種光阻圖形的形成方法，包括：提供若干片晶圓和兩枚光罩，依次將每片晶圓載入一曝光機中，曝光機中存儲有兩枚光罩的設定曝光能量以及每片晶圓對應的兩枚光罩的曝光順序；將先曝光的光罩載入曝光機中，執行第一曝光進程，根據先曝光的光罩的設定曝光能量對晶圓進行曝光；將先曝光的光罩替換爲後曝光的光罩，並輸入修正係數，獲得後曝光的光罩的修正曝光能量；執行第二曝光進程，根據後曝光的光罩的修正曝光能量對晶圓進行曝光；執行烘烤工藝，以及執行顯影工藝，以獲得晶圓上形成的光阻圖形。本發明改善曝光後因烘烤延遲導致的若干片晶圓上形成的光阻圖形的CD值差異。
今年以來晶合集成新獲得專利授權126個，較去年同期增加了137.74%。結合公司2023年年報財務數據，2023年公司在研發方面投入了10.58億元，同比增23.39%。
數據來源：企查查
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