04月19日,光刻機概念盤中跳水,截至09點36分,光刻機概念整體指數下跌1.03%,報1331.320點。
從個股上來看,該概念的成分股中,晶方科技跌1.17%,華亞智能、張江高科、勝利精密跌幅居前。
從資金上來看,截止發稿,光刻機概念主力淨流入爲-2616.40萬,其中波長光電受到資金熱捧,主力淨流入274.89萬;拉長時間線來看,該板塊近20日主力資金淨流入-26.80億。
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