2月26日,光刻機(膠)概念上漲1.18%,今日主力資金流出1.02億元,概念股45只上漲,17只下跌。
主力資金淨流出居前的分別爲張江高科(7164.97萬元)、格林達(2631.66萬元)、西隴科學(2171.31萬元)、中巨芯-U(1415.49萬元)、容大感光(1350.64萬元)。
2月26日,光刻机(胶)概念上涨1.18%,今日主力资金流出1.02亿元,概念股45只上涨,17只下跌。
主力资金净流出居前的分别为张江高科(7164.97万元)、格林达(2631.66万元)、西陇科学(2171.31万元)、中巨芯-U(1415.49万元)、容大感光(1350.64万元)。
2月26日,光刻機(膠)概念上漲1.18%,今日主力資金流出1.02億元,概念股45只上漲,17只下跌。
主力資金淨流出居前的分別爲張江高科(7164.97萬元)、格林達(2631.66萬元)、西隴科學(2171.31萬元)、中巨芯-U(1415.49萬元)、容大感光(1350.64萬元)。
譯文內容由第三人軟體翻譯。
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