來源：聰明投資者
作者：經緯創投
編者按：
全球化的鐘擺轉向、地緣衝突加劇，疊加疫情、經濟/政策週期的各種影響，對於企業而言，都是非常艱難時刻。
穿越週期對任何公司來説都並不容易。
即便是當下那些硬科技領域的隱形冠軍，或是一些重要賽道的著名公司，也經歷過艱難時期。
如果你仔細翻閲阿斯麥ASML的發展史，你會看到無數個處於絕境的時刻，以及無數個絕境逢生的時刻。
是很難，但總有辦法。
經緯創投這篇文章，回顧ASML歷史。從一個被拋棄的研發項目，屢次走在破產邊緣，到如今成為全球光刻機霸主。
它如何度過那些絕境時刻？如何小心翼翼地穿越週期？
「光刻機」作為一個贏者通吃的硬科技領域，在它身上顯現了太多科技公司發展的要素——如何押注正確的技術路徑？是選擇漸進式創新還是顛覆式創新？如何在短時間內做出正確的戰略決策？如何發揮出高效的執行力？……
這些也都是當下硬科技公司所需要面對的難題。
以古為鏡，可以知興替，儘管很多公司的成功不可複製，但這樣的故事依然可以給當下的我們以啟發和微光。
「他們不來了？他們不來了？他們不能這樣做！」
ASML總裁兼首席技術官馬丁·範登布林克差點把他的電話機砸爛。
1991年因為海灣戰爭的爆發，出於安全考慮很多跨國公司禁止高管乘坐飛機。「他們」指的是IBM，因為這樣的禁令，IBM的高管無法來與ASML進行最後的合同談判。
但此時ASML的財務狀況幾乎進了ICU，如果拿不到IBM的訂單，1991年的ASML就會破產。ASML壓上了全部身家，為了IBM的訂單瘋狂努力了好幾年。
這些努力，都會因為這場跟他們毫無關係的戰爭而化為泡影。1991年的ASML，還遠不是我們今天看到的ASML。
今天ASML風光無限，光刻機被稱為現代工業皇冠上的明珠，是製造芯片的核心設備，全世界只有少數幾家公司擁有這樣的技術。
中國芯片產業最大的短板就是EUV光刻機，而這家荷蘭公司佔有45nm以下高端光刻機80%的市場，而在極紫外光（EUV）領域，ASML是全球獨家生產者。但曾經的ASML，無數次走在資金鍊斷裂的邊緣，小心翼翼地穿越經濟週期。貫穿始終的，是ASML對技術路徑的卓越把握和幾乎無止境的研發投入。
從推出PAS 2500在光刻機領域站穩腳跟，隨後經過改進的PAS 5500進入頭部行列，到與臺積電合作成果研製浸沒式光刻機系列，一舉奠定霸主地位。再到2010年推出第一臺EUV光刻機原型，以及通過外延併購形成整體光刻產品組合。
從ASML的發展歷程中可以看出，要想做出一家戰略級硬科技公司，是需要冒多麼大的風險，有着多麼大的決心，花費多麼大的資金，才有可能成長起來。我們通過書籍、券商研報、媒體報道等資料，研究了ASML的發展史，並結合對硬科技的投資邏輯總結了一些觀點。以下，Enjoy：
經濟危機救了ASML：我們看到ASML是怎麼小心翼翼地穿越經濟週期，回過頭來看驚詫地發現，其實經濟危機救了它；
硬科技的艱難抉擇——押注改進還是顛覆：ASML真正的崛起里程碑，是選對了技術路徑，但有時候成功來自於漸進式創新，有時候又來自於顛覆式創新。選對了一飛沖天，選錯了萬丈深淵，我們來看看ASML的啟示；
關鍵轉折點——貴人相助與敵人犯錯：企業要想成功，離不開盟友助力與敵人犯錯。臺積電是ASML的貴人，兩家力推的浸沒式光刻技術，打敗了當時流行的乾式光刻技術，這也源自敵人尼康、佳能的錯誤。當運氣來了，要怎麼抓住它，看看ASML是怎麼做的；
合作才能走得更遠：今天的ASML 90%的零件其實是外購的，它是一家集成商，背後是美國、日本、歐洲、中國臺灣、韓國多家公司與研究所的技術支撐，最終才能量產出極度複雜的EUV光刻機，合作與形成利益共同體是長遠之道。
01 經濟危機救了ASML
「坐視我們這種高風險企業快速倒閉，是典型的荷蘭人做法。如果我們辦公室的燈連續13個晚上亮着，政府勞工檢驗員會要求查看我們的工作許可證。
但我們要把一個關鍵的戰略產業拱手讓給美國和日本嗎？
那我只能説，你們以後就去快樂地擠牛奶、攪黃油和種鬱金香吧。」
德爾·普拉多曾憤憤不平地在接受媒體採訪時説。德爾·普拉多是ASM的創始人，他在1984年接手了被飛利浦拋棄的光刻機研發團隊，成立了合資公司ASML。
ASM是製造芯片生產設備的，但無論從技術和規模上，飛利浦都看不上ASM，所以在尋找接手方時，連談判的機會都沒有給它。德爾·普拉多是個猛人。他幾乎吃飯、睡覺和呼吸都在ASM，他的魅力、野心和無畏展露無遺。
ASM有欣欣向榮的一面，但也有深陷泥沼的一面。
欣欣向榮的是，ASM是荷蘭經濟慘淡景象中的一顆璀璨明珠，正從一家設備分銷公司轉型為獨立設備製造商，收入開始增長；但深陷泥沼的一面是連年的虧損、不大的規模、面臨眾多技術先進的競爭對手……
普拉多一直在用「芯片是戰略產業」這一點來吸引荷蘭政府資金的投入，但政府耐心也有限。直到1983年，飛利浦在其他人那裏碰了一鼻子灰，在經歷了和3家公司談判失敗後，所有人都士氣低落。
而ASM在納斯達克的成功上市，令飛利浦看到也許ASM還是有錢的。
在飛利浦高層再一次明確必須放棄像光刻機這樣的非核心業務後，必須抓住最後一次機會來挽救光刻機團隊，阻止裁員的發生。
飛利浦光刻機項目早期的產品SiRe1；圖片來源：Lithography giant：ASML's rise
於是，ASM作為最後一根稻草，會談開始了。這場會議只持續了1個小時15分鐘。
「對不起，失陪一小會兒。」普拉多與飛利浦光刻機團隊負責人克魯伊夫聊了15分鐘後，他走出房間與團隊商量。
將近一個小時過去了，他才回來，然後説：「讓我們一起做吧。」光刻機業務符合普拉多的雄心壯志，他製造了芯片生產過程中每一道工序所需要的機器，但唯獨缺乏最具戰略性的光刻機。
但合併一個光刻機團隊也是巨大的冒險。
在這場談判的一年前，ASM的收入才3700萬美元，然而僅新一代步進光刻機的研發費用，就將遠遠超過5000萬美元。並且與光刻機所需的先進技術相比，ASM以前掌握的技術簡直不值一提。
一家小公司與巨頭合作，話語權往往落在誰更需要誰。
先進技術令飛利浦在新成立的合資公司ASML中享有很大話語權，為了獲得飛利浦Natlab技術實驗室的後續訪問權限，ASM不得不答應在新公司中與飛利浦平分股權。
飛利浦在交易中還想盡可能節約資金，財務部門起草了一份詳細的合資企業必須支付的費用清單，包括為製造20臺步進光刻機所需訂購的零件和材料費用，以至於「這家新公司買杯咖啡就會破產」。
這就是ASML艱難的成立史，它像一艘好不容易湊齊水手、仍在四處漏水的小船，一邊修補一邊揚帆起航。
這個艱難的開始，與後面ASML所要面臨的困難相比，也只是九牛一毛。從ASML成立的1984年開始，後面連續3年遭遇了市場長時期衰退，行業增長陷入停滯。
但研究ASML的學者們提出了一種觀點，市場崩潰最終證明是對公司的天賜之物。
為什麼説經濟危機救了ASML？
荷蘭高科技學院（HTI）的董事總經理瑞尼·雷吉梅克，以及諸多ASML的早期員工都認為，經濟危機打擊了當時的巨頭，但奇蹟般地給了ASML喘息的時間，讓它有足夠的時間來重塑其研發和生產部門。
因為當時剛剛起步的ASML，走錯了油壓技術路線、裝配廠也還根本無法生產真正的大訂單。那時如果芯片設備市場特別好，而ASML卻賣不出光刻機，那麼ASML會立刻失敗。
另一方面，由於ASML的定位是光刻機集成商，一些零部件還需要依靠上游生產商，比如鏡頭，就需要德國蔡司生產，但蔡司當時的產能情況也非常糟糕。
如果市場在1984年高速增長，蔡司都無法滿足當時光刻機老大GCA的需求，更不可能給ASML足夠的供應。
當然，這些認知是用後視鏡來看，由ASML早期管理層總結出來的。但在1987年秋天，當時沒有人能夠感受到這種奇蹟。
在經濟衰退的這三年，剛剛起步的ASML主要在修煉內功，從一個士氣低落、被拋棄的團隊，逐漸變成一個自力更生的開發團隊，物流和大規模生產系統也趨於成熟，銷售和營銷也已成為一股重要力量。
這種艱難開局還奠定了一個堅實的心理基礎——要堅持熬過週期，在後來ASML多次瀕臨破產邊緣時，都跟ASML在第一天就面臨的困難一樣。
工人正在超淨室裏組裝；圖片來源：Lithography giant：ASML's rise
02 硬科技的艱難抉擇——押注改進還是顛覆
「等你賣了20臺光刻機後，再回來找我談。」
時任ASML CEO斯密特在加州一場世界一流的芯片設備展上備受打擊，他到處宣揚飛利浦的光刻機項目起死回生了，但得到的反饋寥寥無幾。
當時的光刻機巨頭是美國GCA和新崛起的日本尼康，裝機量（在客户工廠中運行的機器數量）是所有人關心的關鍵指標，GCA和尼康已經達到數百台，而ASML還是零。
這個指標之所以重要，是因為光刻機過於複雜，以至於光刻機供應商需要配備大量服務工程師，以應對突發情況。
一些微小的因素就會導致光刻機出現問題，實踐經驗非常重要。帶着絕望的心情，斯密特回到了荷蘭，他除了覺得芯片行業充滿活力之外，其他都是沮喪的消息。
絕境逼人思考，當他回顧在整個差旅中看的一切時，似乎在黑暗中有一絲光線若隱若現。
當時，整個芯片行業即將跨越一個難關，這為設備製造商創造了機會。
在加州的展會上，每個人都在談論摩爾定律，談論下一代機器——從大規模集成電路（LSI）到超大規模集成電路（VLSI）。
顯然在未來幾年內，芯片線路將縮小到1/1000毫米以下，光刻機處理的將不再是4英寸的晶圓，而是6英寸的晶圓。
隨着這個轉變，超大規模集成電路需要新一代光刻機，這種機器要能夠將0.7微米的細節成像到晶圓上，並實現更緊密的微電子集成。
在所有的壞消息中，唯一的好消息就是，還沒有人找到製造這種光刻機的方法。
大門雖關閉，但窗户已打開。斯密特與團隊一起探討，如果ASML成功開發出新一代光刻機，那麼半導體行業就會被他拿下。
斯密特之所以有這樣的信心，是因為新一代光刻機必須在光學、對準和定位等幾乎每個方面都大幅改進。
當時的行業巨頭佳能、GCA、尼康和Perkin-Elmer公司製造的機器仍然使用導程螺絲桿來移動晶圓臺，這意味着他們的圖像細節達不到小於1微米的定位精度，而這正是ASML技術的優勢所在。
斯密特也是一位有遠見的人。他以前研究過航空業的整合行動，在他還在上大學的時候，世界上有50家飛機制造廠，當他拿到博士學位後，就只剩下幾家了。
他還在上一份工作經歷中見證過電信業的技術變革。
他知道一家新公司，在成熟市場是沒有機會的，除非這家新廠商選擇對了技術路徑。
助ASML在光刻機市場上站穩腳跟；圖片來源：Lithography giant：ASML's rise
技術路徑深刻影響了光刻機公司們的起起伏伏，我們總結了三個重要啟示：
早期優勢有可能會轉化為阻礙
ASML由於承襲了飛利浦的光刻機技術，在一開始採用的是油壓驅動，而非電動。
在1973年，當愛德·鮑爾在飛利浦製造了第一臺步進光刻機時，這個基於油壓驅動的晶圓臺遙遙領先於時代。當時油壓是一項卓越的技術，如果沒有受到挑戰是很難被放棄的。
油壓裝置提供了穩定性和精度極高的定位系統，但它有一個問題，就是機油如果泄漏，則會對芯片製造過程造成嚴重破壞。
在80巴的壓力下，即使是最微量的泄漏也會將整個房間噴上油霧，污染將使芯片生產停滯數月，油在芯片生產過程中是「毒藥」。
並且，機油系統還會產生很多噪聲，需要定製外殼來減少噪聲。這些問題導致了油壓驅動的光刻機沒有客户。
但由於技術依賴的慣性，飛利浦沒有改進這個問題，直到剝離光刻機項目。
而到了ASML，也沒有在一開始就重視這個問題，斯密特仍希望將這種油壓設備，硬賣給那些想要嘗試其高級對準系統的客户。
當然，結果肯定是失敗的。
雖然ASML有一張技術王牌——能夠實現精準套刻的對準技術，但由於這項技術被應用於油壓驅動的機器中，就是沒有人買。
最終斯密特決定放棄油壓，改為電動晶圓臺，這意味更多的研發經費、更短的研發時間、和一定的失敗機率，但也不得不迎難而上。
漸進式創新的影響力可能超出想象
20世紀80年代，ASML在光刻機領域還算不上最頭部的公司。
當時的老大要屬美國GCA。但GCA在80年代中期就迅速衰敗了。
當時導致GCA失敗的最終因素，主要是蔡司的g線鏡頭，一種光線漂移問題嚴重。
在開始時一切都很好，但隨着光刻機運行的時間變長，圖像質量就會下降。
因為急於向客户交付光刻機，所以GCA在把鏡頭安裝在機器上之前不會對鏡頭進行檢查，這導致GCA交付了數百台帶有故障鏡頭的光刻機，而蔡司多年來對這個問題一無所知，只有不到10%的鏡頭被送回進行維修。
更大的問題是GCA的光刻機無法自動糾正此類錯誤，工程師們也不知道問題出現的確切原因。
此時，一種漸進式創新出現了。
GCA的日本競爭對手（尼康）設法改進了光刻機的聚焦系統。尼康依次開發出了具有較大數值孔徑的g線目鏡，這種組合令尼康的系統，能夠更清晰地將微小圖案成像到光刻膠的薄層上。這項漸進式創新，令尼康斬獲頗豐。
當時有很多廠商正在大規模投入g線技術向i線技術革新。但客户們都很看好尼康的改進，因為他們只需要換掉GCA的光刻機，而不是是重新創建一個全新的基礎設施。在製造更好芯片的同時，還節省了大量資金。
在技術轉型期要格外小心這些因素，尼康對g線鏡頭的微小創新只是其中一個。當現有技術的壽命延長，對昂貴新技術的需求就會減弱，這意味着投入時機的重要性。
要探索技術路徑的迷霧，賽馬制可能是不錯的手段
ASML也一樣會面臨抉擇，到底是逐步改善現有技術，還是投入新的？
ASML里程碑式的光刻機PAS 5500，就是在這樣的抉擇中誕生的。
工程師要做的不僅是機器的物理設計，他們還必須在初期選擇技術路徑，然後再擴展物理設計。如果機器架構從一開始就不可靠，那麼以後各個環節都會遇到麻煩，問題還將持續多年。
例如晶圓臺精度就是一個不確定因素。
當時，ASML在其機器中使用帶有直線電動機的H型晶圓臺，但隨着市場對「對準精度」的要求越來越高，很難説這種技術路徑的產品能在市場上存活多久。
此時，擺在面前的問題是，ASML應該選擇逐步改善，還是徹底革新？
如果選擇逐步改善，這種技術路徑很可能最終無法滿足市場的新需求；另一種選擇是使用革命性的長衝程、短衝程發動機尋求突破，但研發會有風險。
ASML PAS 5500的首席架構師範登布林克沒有直接做出決定，其實他也很難判斷到底孰優孰劣。
由於這個決策意義重大，他決定在這兩條路上分別試驗6-9個月，兩個團隊分別在自己的技術路徑上賽馬。
最後，技術競賽證明舊H型晶圓臺，有足夠的潛力定位8英寸的晶圓，所以ASML選擇了這條保險的路線。長短衝程發動機被暫時雪藏，但也可作為更新換代的備選方案。
PAS 5500對於ASML來説，是一款決定性的產品，ASML把所有希望寄託在它身上，PAS 5500也的確推動ASML走向光刻機世界的舞臺中心。所以在這種重大的決策上，多花點研發經費是划算的，技術路徑的賽馬機制是值得的。
經歷了多年的苦心經營，ASML在步進掃描光刻機時代走到了巨頭行列，當時的市場形成了三家獨大的局面：ASML、尼康、佳能。
但令ASML真正登上霸主寶座，彎道超車打敗另外兩家的契機，來自於顛覆式創新，來自於臺積電的一個發明。
03 關鍵轉折點——貴人相助與敵人犯錯
技術賽馬制之所以重要，就在於當顛覆式創新的機會來臨時，提供支撐勇氣的判斷。
ASML最大的彎道超車，發生在193nm製程到157nm製程的升級過程。
過去步進掃描光刻機採取的技術路線都是乾式法，通過用更高級的曝光光源，來支撐技術進步到下一代。
為了追求更高的分辨率，光源波長從最初的365nm，到248nm，再到193nm，但再往下走時，這條技術路徑出現了困難。
當時業內又面臨是押注改進還是顛覆的抉擇。
大部分企業選擇了在原有技術路徑上改進，比如兩大巨頭尼康、佳能，都選擇進一步研發157nm波長的光源，但遇到了困難。這時候，一種全新的技術理念出現在市場上——浸沒式。
這個思路由臺積電的華裔越南科學家林本堅提出，他創造性的用水作為曝光介質，光源波長還是用原來的193nm，但通過水的折射，使進入光阻的波長縮小到134nm。
以前的乾式法中，曝光介質用的是空氣。
它們的區別在於折射率，193 nm光源在空氣中的折射率為1，在水中折射率為1.4，這也就意味着相同光源條件下，浸沒式光刻機的分辨率可以提高1.4倍。
當時很多人認為浸沒式技術難度太大。
首先水可能會把鏡頭上的髒東西洗出來，影響工作效能；還有人擔心水中的氣泡、光線明暗等因素，會影響折射效果。
林本堅也在着手攻克這些問題，比如用去離子水和其他手段，來保持水的潔淨度和温度，使其不起氣泡。
但理論歸理論，能不能從實驗室真正到工廠，還需要經驗豐富的設備商一起開發。
林本堅去美國、日本、德國、荷蘭跑了一大圈，向光刻機廠商兜售浸沒式光刻的想法。
但是，絕大部分大廠都不買賬。
不買賬的原因除了這項技術走得太「鬼才」，還有不少想法需要驗證之外，另一個原因就是改變的沉沒成本太高。
當時主流的研發思路，都是在157nm的乾式光刻技術路徑上。
諸多公司已經耗費了大量財力、人力、物力，如果用這種「加水」的想法，各個研究團隊就得全部重新開始，推翻原有的大部分設計。
所以巨頭們對林本堅的態度，不僅僅是不理睬，而是封殺。
尼康甚至向臺積電施壓，要求雪藏林本堅。
在現實利益面前，這樣的事情還發生過很多，比如柯達其實是最早研發出數碼相機的公司，但缺乏自我顛覆的勇氣，因為恐懼它威脅到自己的膠片業務，反而是雪藏了數碼相機。
終於當林本堅跑到了荷蘭時，ASML願意做第一個吃螃蟹的勇士。
雖然ASML也是從乾式光刻機起家，但它想通過賽馬制來賭一把。既然尼康、佳能都在死磕乾式法157nm光源，且進展不順利，那這支「奇兵」的意義就是巨大的。
最終浸潤式成功了。
2003年，ASML和臺積電合作研發的首臺浸沒式光刻設備——TWINSCAN XT:1150i出爐，第二年又出了改進版。
同年，研發進度拖慢的尼康，終於宣佈了157nm的乾式光刻機產品樣機出爐。
但此時勝負已定，一面是用原來193nm光源但通過水進化到132nm波長的新技術，一面是157nm波長的樣機，浸潤式技術的優勢不言而喻。
這一技術成為此後65、45和32nm製程的主流，推動摩爾定律往前躍進了三代。
顛覆式創新的毀滅力也是巨大的。
尼康、佳能由於對技術路徑的判斷失誤，不僅意味着幾百億研發資金打了水漂，更是在與ASML的競爭中徹底落敗。
在2000年之前的16年裏，ASML雖然躋身第一梯隊，但是第一梯隊裏最小的玩家，佔據的市場份額不足10%。
但自浸沒式技術出現後，一路摧枯拉朽，全面碾壓昔日巨頭尼康、佳能，2008年市場佔比超過60%。
整個日本的半導體廠商，以及IBM等巨頭，也都迅速衰落。
04 合作才能走得更遠
為了進一步鞏固戰果，ASML開始打造上下游利益共同體。
由於浸沒式技術的獨家性，ASML要求所有合作伙伴必須投資它，否則就不合作。Intel、三星、臺積電等等都投資了ASML，大半個半導體行業成為了ASML一家的合作伙伴，形成了龐大的利益共同體，大家都綁在了一條船上。
值得注意的是，在研發浸沒式光刻設備的同時，ASML還早期佈局了EUV技術，可謂走一步看三步。
中國現在買不到的EUV光刻機，就是這種最前沿的產物。
我們在前文提到，尼康開發乾式157nm光源遭遇了困難，就是因為不停縮小光源波長越來越困難，浸沒式光刻技術雖然通過水的折射率暫時領先，但在未來，也一樣會面臨需要不停縮小波長的問題。
極紫外光（EUV）就像曾經的浸沒式技術一樣，擁有另闢蹊徑的潛力，因為它的光波長極小，可以創造出比傳統光刻小得多的電路。
從1990年代末開始，直到2017年推出第一臺商用EUV機器，這個項目共耗資90億美元。
EUV代表產生電路的極紫外光；圖片來源：New York Times
資金只是一方面，EUV的量產並不是一家公司的能力，而是多方合作的共同結果。
美國政府之所以對ASML擁有影響力，就是因為美國政府和美國科研力量，是開發中極其重要的一環。
早在1997年，英特爾認識到進一步縮小光源波長的困難，渴望通過EUV來另闢蹊徑。
英特爾説服了美國政府，組建了「EUV LLC」的組織，包含了商業力量和政府科研力量，例如摩托羅拉、AMD、英特爾等，還彙集了美國三大國家實驗室，美國成員構成了主體。
在對外國成員的選擇上，英特爾和白宮產生了分歧，英特爾想讓在光刻機領域有實力的ASML和尼康入局，但白宮認為如此重要的先進技術研發不該有「外人」入局。
此時ASML展示出了驚人的技術前瞻性，一定要擠進EUV LLC，雖然這個組織的目標是為了論證EUV技術的可行性，而不是量產它。
ASML強力遊説，開出了很難拒絕的條件——由ASML出資在美國建工廠和研發中心，並保證55%的原材料都從美國採購。
幾百名全球頂尖的研發人員，經過了6年時間，終於論證了EUV的可行性，於是EUV LLC的使命完成，於2003年解散，各個成員踏上獨自研發之路。
此時的ASML剛在浸潤式技術上奇兵致勝，然後就立即投入到EUV的研發中。ASML每年將營業收入的15%用於研發，比如2017年的研發費用就高達97億人民幣。
越投入技術越強，競爭對手都逐漸跟不上了。
EUV的技術難度非常高。
在先進的EUV光刻機中，為了產生波長13.5nm超短波長的光，需要持續用20kw的激光轟擊從空中掉落的金屬錫液滴，液滴直徑只有20微米，而且同一個液滴需要極端時間內連續轟擊兩次。
第一次衝擊是將它們壓平，第二次衝擊是將它們汽化，才能產生足夠強度的極紫外光。為了保證光的持續性，每秒要轟擊5萬次。
EUV每秒鐘激發50000次
EUV光刻機被譽為人類製造的最複雜機器之一。
各個環節的高度專業性也彙集了全球的尖端產業，其中要用到來自德國的反射鏡，以及在聖地亞哥開發的硬件，這種硬件通過用激光噴射錫滴來產生光，重要化學品和元件則來自日本。
ASML還於2012年收購了頂級光源企業Cymer。
EUV光刻機絕對是人類製造的最精密複雜的設備之一
運輸該機器需要40個集裝箱、20輛卡車和三架波音747飛機；圖片來源：New York Time
sASML其實是一個集大成者（集成商），也是全球化的受益者。
ASML 90%的零部件來自於外購，再由最理解客户需求和產業發展趨勢的ASML集成。ASML的背後是美國、日本、歐洲、中國臺灣、韓國的技術支撐，最終才能量產出極度複雜的EUV光刻機。
這就是尖端供應鏈全球化的典型例子，如果中國想在芯片領域取得大幅進步，那就不得不面對一個由多方構成、缺一不可的全球尖端供應鏈。
早在ASML成立最初的幾個月裏，就確定了它合作的基因。
ASML只進行研發和組裝，並不什麼都由自己製造。
這種理念在1984年是十分超前的，因為當時歐洲流行的信念是「你最好什麼都自己做才能控制一切」。
當時很多人都認為ASML瘋了：「培養合作伙伴與把鑰匙交給別人是同一種意思，這是在自找麻煩，你會完全失去控制權。」但事實證明合作才能走得更遠。
最後，我想回到文章開頭那個小故事：當海灣戰爭讓IBM的高管無法前來面談，完全打亂了ASML的計劃，令它處於破產邊緣時，ASML是如何破局的？
ASML高價僱傭了一個視頻攝製組，花了一天時間，把原計劃要向IBM展示的全部內容拍了下來。
那天晚上，PAS 2500的項目經理理查德·喬治，帶着錄像磁帶和一位視頻編輯在工作室裏通宵剪輯影片。
第二天早上，當時的ASML CEO馬里斯帶隊，手裏拿着寶貴的錄像帶，飛到了IBM。
評審會獲得了空前成功，IBM的人看錄像時吃驚得差點從椅子上摔了下來，他們從來沒有見過這樣先進的設備，整個房間裏的人都十分激動。
如果你仔細翻閲ASML的發展史，你會看到無數個處於絕境的時刻，以及無數個絕境逢生的時刻，是很難，但總有辦法。
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