一、事件概述
公司2021/7/14 发布2021 年半年度业绩预告,预计2021 年上半年实现归母净利1.05-1.15 亿元。
二、分析与判断
高景气&国产替代加速、新品进展顺利驱动业绩大增公司公告预计2021 年上半年实现归母净利1.05-1.15 亿元,同增305-344%,按区间中值计算,21Q2 单季预计实现归母净利1.07 亿元,同增577%,环增3920%;剔除非经常性损益后,2021 年上半年实现扣非归母净利4000-5000 万元,同增58-98%。
按区间中值计算,21Q2 单季预计实现扣非归母净利2240.42 万元,同增42%。主要因下游需求增长,国产替代加速,公司晶圆超纯化学材料持续放量,超纯电镀液、添加剂及清洗液产品获得客户越来越多认可;公司参与的中芯国际首发战略配售,报告期内确认公允价值变动损益影响净利润约6500 万元。
国内唯一超纯电镀液供应商,合肥一期将于2022 年初贡献产能公司是半导体制造用芯片表面处理功能性化学品领军企业之一,现已实现电镀、清洗、研磨、光刻胶四大产品线布局,多产品处于快速放量前期。公司是国内唯一能够满足28-90nm 晶圆制造技术节点的超纯电镀液供应商和主流的清洗液供应商,下游客户覆盖中芯、华虹、长存、长鑫等主流厂商,电镀&清洗的超纯产品合肥一期新产能1.5 万吨/年,将于2022 年初投产,在供不应求背景下,打开公司产能瓶颈,超纯产品有望实现快速增长。
光刻胶进展顺利,公司是存储客户氮化硅蚀刻液的国内独供I 线光刻胶处于客户验证阶段、ArF 193nm 干法光刻胶处于线外测试阶段、KrF(248nm)厚膜光刻胶已取得首笔订单,光刻胶产品进展顺利,预计加速光刻胶营收上量。目前公司是存储客户的氮化硅蚀刻液产品的国内独家供货商,该产品为公司独家研发成果,进一步丰富上量产品矩阵,拓展业绩动力源。
三、投资建议
我们预计2021/22/23 年公司归母净利为1.71/1.61/2.23 亿元,对应PE 为94/100/72倍,剔除交易性金融资产公允价值变动损益带来的非经影响,预计2021/22/23 年公司扣非归母净利为1.16/1.61/2.23 亿元,同比增长147%/39%/39%。当前申万半导体指数PE 为132 倍,考虑半导体行业高景气,以及公司未来产能扩张、产品结构优化,首次覆盖,给予“推荐”评级。
四、风险提示
行业景气不及预期;研发进展不及预期;产能爬坡不及预期
一、事件概述
公司2021/7/14 發佈2021 年半年度業績預告,預計2021 年上半年實現歸母淨利1.05-1.15 億元。
二、分析與判斷
高景氣&國產替代加速、新品進展順利驅動業績大增公司公告預計2021 年上半年實現歸母淨利1.05-1.15 億元,同增305-344%,按區間中值計算,21Q2 單季預計實現歸母淨利1.07 億元,同增577%,環增3920%;剔除非經常性損益後,2021 年上半年實現扣非歸母淨利4000-5000 萬元,同增58-98%。
按區間中值計算,21Q2 單季預計實現扣非歸母淨利2240.42 萬元,同增42%。主要因下游需求增長,國產替代加速,公司晶圓超純化學材料持續放量,超純電鍍液、添加劑及清洗液產品獲得客户越來越多認可;公司參與的中芯國際首發戰略配售,報告期內確認公允價值變動損益影響淨利潤約6500 萬元。
國內唯一超純電鍍液供應商,合肥一期將於2022 年初貢獻產能公司是半導體制造用芯片表面處理功能性化學品領軍企業之一,現已實現電鍍、清洗、研磨、光刻膠四大產品線佈局,多產品處於快速放量前期。公司是國內唯一能夠滿足28-90nm 晶圓製造技術節點的超純電鍍液供應商和主流的清洗液供應商,下游客户覆蓋中芯、華虹、長存、長鑫等主流廠商,電鍍&清洗的超純產品合肥一期新產能1.5 萬噸/年,將於2022 年初投產,在供不應求背景下,打開公司產能瓶頸,超純產品有望實現快速增長。
光刻膠進展順利,公司是存儲客户氮化硅蝕刻液的國內獨供I 線光刻膠處於客户驗證階段、ArF 193nm 幹法光刻膠處於線外測試階段、KrF(248nm)厚膜光刻膠已取得首筆訂單,光刻膠產品進展順利,預計加速光刻膠營收上量。目前公司是存儲客户的氮化硅蝕刻液產品的國內獨家供貨商,該產品為公司獨家研發成果,進一步豐富上量產品矩陣,拓展業績動力源。
三、投資建議
我們預計2021/22/23 年公司歸母淨利為1.71/1.61/2.23 億元,對應PE 為94/100/72倍,剔除交易性金融資產公允價值變動損益帶來的非經影響,預計2021/22/23 年公司扣非歸母淨利為1.16/1.61/2.23 億元,同比增長147%/39%/39%。當前申萬半導體指數PE 為132 倍,考慮半導體行業高景氣,以及公司未來產能擴張、產品結構優化,首次覆蓋,給予“推薦”評級。
四、風險提示
行業景氣不及預期;研發進展不及預期;產能爬坡不及預期