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中国半导体的三个阶段

中國半導體的三個階段

半導體風向標 ·  2021/01/23 15:26

來源:方正證券研究所 陳杭

01.png牛牛敲黑板:

當下擺在中國半導體工業主要矛盾已經不是缺少工藝,而是缺少半導體設備和材料。由於歐洲ASML的DUV光刻機(.13um -7nm)一直無阻礙供應中國,所以未來中國半導體工業的核心矛盾就是從根技術(半導體設備、材料)上補短板,實現真正的供應鏈安全。

基於此,未來中國半導體將走向成熟工藝、走向雙循環、走向根技術

通過覆盤近三年美國的三輪芯片封鎖,我們總結出中國半導體發展的三個階段:

第一輪封鎖:2019年5月限制華為終端的上游芯片供應商,目的是卡住芯片下游成品

第二輪封鎖:2020年9月限制海思設計的上游晶圓代工鏈,目的是卡住芯片中游代工

第三輪封鎖:2020年12月限制中芯國際上游半導體供應鏈,本質是卡住芯片上游設備

我們看到美國的封鎖是順着產業鏈一直到最上游的底層供應鏈。為了應對這種生存環境的鉅變,中國半導體工業也進行了三輪大級別的調整:

第一個階段:終端廠帶動上游設計和封測

我們將半導體分為上中下游,其中最下游的就是fabless和封測,芯片下游與終端廠(手機、電腦等)直接綁定,所以我們看到2019年華為被美國列入實體清單後,將相當部分的芯片訂單轉移到國內「備胎」供應鏈,直接顯著推動了國產芯片設計(模擬、數字、射頻、存儲)和封測公司收入、業績的加速增長

除了採購國產供應鏈,華為海思依據其多年深厚的專利積累和研發,在芯片設計的多個領域都做到了世界一流水平,整個芯片設計行業因為外部壓力引來了一次大級別的拉動,這是2019年開啟的A股半導體牛市背後的原因。

第二個階段:fabless帶動上游晶圓代工廠

由於全球所有晶圓廠包括臺積電都採用了大量美國技術(半導體設備、材料、EDA/IP),美國對華為的第二輪實體清單限制直接針對Fab代工,此時中國半導體產業的主要矛盾已經從缺少芯片成品,到缺少芯片代工。

在海外Fab廠不能為華為海思提供晶圓代工後,國產晶圓廠成為替代必選方案,中芯國際經過多年的發展,在國產fabless巨頭的通力配合下,已經在2020年量產了14nmFinFET工藝,並向N+1節點過渡,這是中國集成電路行業歷史性突破,成為全球第三家FinFET fab成員,代表了工藝調校方面的階段性突破,也為國產成熟工藝fab廠提供了經驗

第三個階段:晶圓廠帶動上游設備和材料

在FinFET工藝陸續突破之際,2020年末美國新一輪實體清單直接指向了fab中芯國際,因為半導體設備是晶圓廠的底盤,而美系設備商大約佔據了一條fab產線的50%份額(PVD、刻蝕機、CVD、Imp、Clean、Furnace),AMAT、LAM、KLAC都是全球壟斷級別的設備巨頭,在先進節點工藝上依舊無可替代。

但是在成熟工藝節點,國產和日本設備可以實現相當程度的替代,當下擺在中國半導體工業主要矛盾已經不是缺少工藝,而是缺少半導體設備和材料。由於歐洲ASML的DUV光刻機(.13um -7nm)一直無阻礙供應中國,所以未來中國半導體工業的核心矛盾就是從根技術(半導體設備、材料)上補短板,實現真正的供應鏈安全。

基於此,未來中國半導體將走向成熟工藝、走向雙循環、走向根技術

1由單純追求先進工藝-> 迴歸成熟工藝 (「新55nm」遠大於「舊7nm」)

2由外循環-> 內外雙循環(去A化,而不是國產化)

3補短板由幹技術-> 根技術(設計、製造其實不是根技術)

我們重申推薦半導體的三個層次,建議關注:

1、缺芯片設計:韋爾股份、卓勝微、晶晨股份、聖邦股份、滙頂科技、兆易創新、瀾起科技、紫光展鋭、恆玄科技、芯原股份、思瑞浦

2、缺代工封測:中芯國際、華潤微、華虹半導體、聞泰科技、長電科技、深科技、晶方科技、華天科技、通富微電、士蘭微、揚傑科技、捷捷微電

3、缺設備材料:北方華創、華峯測控、屹唐半導體、萬業企業、盛美半導體、精測電子、中環股份、立昂微、安集科技、江豐電子、滬硅產業、雅克科技、神工股份

風險提示:中美貿易摩擦加劇引發新一輪封鎖;半導體下游需求不及預期;產品研發和工藝推進不及預期

圖片

編輯/Viola

譯文內容由第三人軟體翻譯。


以上內容僅用作資訊或教育之目的,不構成與富途相關的任何投資建議。富途竭力但無法保證上述全部內容的真實性、準確性和原創性。
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