事件概述

公司发布2024 年中报。

刻蚀设备快速放量，新接订单/发货持续高增2024H1 公司实现营收34.48 亿元，同比+36.46%，其中Q2 营收18.43 亿元，同比+41.37%，好于市场预期。分产品看：24H1 刻蚀设备实现收入26.98 亿元，同比+56.68%，占营收比重78.26%，同比+10.1pct；24H1 MOCVD 实现收入1.52 亿元，同比-49.04%，短期主要受终端市场波动影响；24H1 新增 LPCVD 设备收入 0.28 亿元，新品逻辑初步兑现。截至24H1，公司存货和合同负债分别为67.78 和25.35 亿元，分别环比+21.39%和+116.85%，主要系公司订单及机台产量和发货量显著增长所致；24H1 公司共生产专用设备 833 腔，对应产值68.65 亿元，同比+402%；24H1 公司新接订单 47.0 亿元，同比+40.3%，其中刻蚀设备新增订单 39.4 亿元，同比+50.7%，LPCVD 新增订单 1.68亿元。充足的在手订单为公司后续营收端快速增长提供支撑。

研发投入力度进一步加大，非经常损益压制利润端表现

2024H1 公司归母净利润和扣非归母净利润分别为5.17 和4.83 亿元，分别同比-48.48%和-6.88%，其中Q2 归母净利润和扣非归母净利润分别为2.68 和2.20 亿元，分别同比-63.23%和-24.32%，短期盈利承压。2024H1 销售净利率和扣非销售净利率分别为14.97%和14.02%，分别同比-24.7 和-6.52pct，盈利水平有所下降。1）毛利端：24H1 销售毛利率为41.32%，同比-4.57pct，略有所下降，主要系会计准则调整，24H1 预计产品质量保证损失0.95 亿元计入营业成本，对毛利率影响约2.75pct，此外我们推测产品、客户结构变化对毛利率也有一定影响；2）费用端：24H期间费用率为26.45%，同比+4.64pct，其中销售、管理、研发和财务费用率同比-1.83/+0.78/+4.92/+0.77pct，研发费用率大幅提升主要系研发投入加大，24H1 研发投入9.70 亿元，同比+110.84%，目前在研项目涵盖六类设备，20 多个新设备的开发。3）2023H1 公司出售拓荆科技股票产生税后净收益约 4.06亿元，2024H1 无相关收益，非经常损益大幅下降。

加大刻蚀、薄膜沉积设备等产品线研发，平台化布局顺利推进

1）刻蚀设备：大力投入先进制程关键刻蚀设备的研发和验证，已经在生产线验证出具有刻蚀≥60:1 深宽比结构的量产能力，并积极储备更高深宽比结构（≥90:1）刻蚀技术，多款 ICP 设备在先进逻辑芯片、先进DRAM 和3D NAND 产线验证推进顺利并陆续取得客户批量订单。晶圆边缘Bevel 刻蚀设备完成开发，公司的TSV 硅通孔刻蚀设备也越来越多地应用在先进封装和MEMS 器件生产。2）薄膜沉积设备：完成多家逻辑和存储客户对CVD/HAR/ALD W 钨设备的验证，取得了客户订单，公司近期已规划多款CVD 和ALD 设备，增加薄膜设备的覆盖率，进一步拓展市场；EPI 设备已顺利进入客户验证阶段。3）MOCVD：Micro-LED 应用的专用MOCVD 设备开发顺利，已付运样机至国内领先客户开展生产验证，下一代用于氮化镓功率器件制造的MOCVD 设备也正在按计划顺利开发中。

投资建议

我们上调公司2024-2025 年营业收入分别为83.19、108.89 亿元（原值为80.10、100.13 亿元），新增2026 年营业收入预测为140.00 亿元，同比增速分别为32.8%、30.9%和28.6%；我们上调2024-2025 年归母净利润分别为18.29、24.04 亿元（原值为18.20、22.05 亿元），新增2026 年归母净利润预测为32.10 亿元，同比增速分别为2.4%、31.4%和33.6%；受股本数变动影响，我们调整2024-2025 年EPS 分别为2.94、3.87元（原值为2.95、3.58 元），新增2026 年EPS 预测为5.17元。2024/08/26 股价130.46 元对应PE 分别为44、34 和25，投资评级由“买入”下调至“增持”评级。

风险提示

半导体行业景气度下滑，新品研发不及预期等。