格隆匯7月19日｜據臺媒，台積電董事長今年5月祕密拜訪阿斯麥總部，洽談購買下一代極紫外(EUV)光刻設備，此次訪問ASML幾乎敲定了北美EUV光刻機的採購計劃。該設備預計將於今年秋季入駐臺積電研發中心，將助力“A10技術”的開發。該技術屬於下一代1nm工藝，代表着半導體技術的重大飛躍，能夠生產出更小、更強大、更高效的芯片。
台积电与ASML接近达成EUV协议，对1nm芯片技术至关重要
台積電與ASML接近達成EUV協議，對1nm芯片技術至關重要
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