證券之星消息，根據企查查數據顯示天準科技（688003）新獲得一項發明專利授權，專利名爲“一種側面曝光裝置”，專利申請號爲CN202311455437.X，授權日爲2024年7月5日。
專利摘要：本發明提供了一種側面曝光裝置，側面曝光裝置包括框型光源底板、四個側邊光源條模組和兩個內光源條模組；側邊光源條模組安裝在光源底板的底面四周，兩個內光源條模組並行間隔的安裝在光源底板中間，內光源條模組與側邊光源條模組配合實現對下方的一個半片、一個整片或兩個半片的片材產品進行曝光；本申請的側面曝光裝置設計新穎，結構簡單，可對多種型號的片材進行側面及棱面的曝光，且對正反兩面無影響，保證了產品的側面高效曝光，便於在光伏、半導體中片材產品(如硅片、電池片)的側面圖形化領域中推廣應用。
今年以來天準科技新獲得專利授權20個，較去年同期減少了74.36%。結合公司2023年年報財務數據，2023年公司在研發方面投入了2.31億元，同比減4.68%。
數據來源：企查查
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