證券之星消息，根據企查查數據顯示四方光電（688665）新獲得一項實用新型專利授權，專利名爲“一種煙塵用光學檢測腔室及煙氣粉塵測量儀”，專利申請號爲CN202420840028.5，授權日爲2024年6月28日。
專利摘要：本實用新型提供一種煙塵用光學檢測腔室及煙氣粉塵測量儀，涉及煙塵檢測裝置，該氣測量儀包括煙塵用光學檢測腔室，該煙塵用光學檢測腔室包括：主體部、安裝通孔、吹掃氣道和透鏡，主體部具有測量腔室；安裝通孔沿其軸向貫穿測量腔室壁面；吹掃氣道配置爲將測量腔室內部與測量腔室外部連通且其位於測量腔室內部的一端延伸至安裝通孔處、並覆蓋安裝通孔朝向測量腔室內部的開口端；該透鏡至少部分穿過開口端伸至吹掃氣道內。本實用新型的有益效果爲：吹掃氣道吹出氣體時，可以使透鏡的內表面能被整體吹掃，保證透鏡凸面的潔淨程度，提高煙氣粉塵測量儀測量精度。
今年以來四方光電新獲得專利授權14個，較去年同期增加了55.56%。結合公司2023年年報財務數據，2023年公司在研發方面投入了8224.14萬元，同比增46.07%。
數據來源：企查查
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