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阿斯麦光刻机迈向“high-NA ”时代!台积电与三星即将采购新款EUV

阿斯麥光刻機邁向“high-NA ”時代!台積電與三星即將採購新款EUV

智通財經 ·  06/05 21:24

來源:智通財經

光刻機巨頭阿斯麥即將向全球最大規模芯片製造商以及三星電子(Samsung Electronics)交付最新款的頂尖芯片製造設備。              

總部位於荷蘭的光刻機巨頭$阿斯麥 (ASML.US)$即將向全球最大規模芯片製造商$台積電 (TSM.US)$以及$三星電子 (SSNLF.US)$交付最新款的頂尖芯片製造設備。據阿斯麥發言人最新透露,阿斯麥首席財務官Roger Dassen在最近的一次電話會議上對分析師表示,爲阿斯麥貢獻巨額營收的前三大客戶——即台積電、英特爾以及三星電子,即將在今年年底之前獲得阿斯麥最新推出的high-NA EUV光刻機。

據了解,英特爾已經訂購了阿斯麥這一新款EUV光刻機,並且阿斯麥已經於2023年12月底將全球第一臺high-NA EUV光刻機運往英特爾位於俄勒岡州的一家大型芯片製造工廠。

目前尚不清楚阿斯麥最大規模的EUV光刻機客戶台積電何時將正式收到這些設備,這家全球最頂級芯片製造商的一名代表表示,該公司按照計劃與半導體設備供應商密切合作,並拒絕展開進一步置評。

值得注意的是,此前在5月中旬,台積電高級副總裁Kevin Zhang曾表示,阿斯麥最新型的先進芯片製造光刻機器的價格令人望而卻步。“這臺EUV光刻機成本非常高。”他指的是阿斯麥最新推出的“high-NA”級別極紫外(EUV)光刻機。

“我喜歡high-NA EUV的性能,但是我確實不喜歡它的標價。使用新的阿斯麥技術將取決於它在哪個層面最具經濟意義以及我們能夠實現的技術平衡。”Kevin Zhang當時在阿姆斯特丹的一個技術研討會上表示。不過他拒絕就台積電可能何時開始向阿斯麥訂購新推出的high-NA EUV進行置評。

在阿斯麥發言人透露的消息刺激之下,在荷蘭阿姆斯特丹股市,阿斯麥股價一度上漲3.5%,至903.70歐元。該公司股價今年迄今在荷蘭已上漲約33%。在美股盤前交易中,阿斯麥股價一度漲超4%。

high-NA EUV,對於2nm及以下製程至關重要

阿斯麥的這一款“high-NA”級別極紫外(EUV)光刻機系統,可以用僅僅8納米厚的線條來壓印半導體——比上一代EUV機器要小足足1.7倍,在阿斯麥的設想中,這一款全新EUV在未來將用於生產爲ChatGPT等人工智能應用和AI智能手機登最先進消費電子產品提供強大驅動力的高性能先進製程芯片。

然而,這一堪稱“人類科技最巔峯”的芯片製造機器每臺購買成本高達驚人的3.5億歐元(大約3.8億美元),重量則相當於兩架空客飛機A320。

來自荷蘭的阿斯麥是全球最大規模光刻系統製造商,阿斯麥所生產的光刻設備在製造芯片的過程中可謂起着最重要作用。阿斯麥是台積電、三星以及英特爾用於製造高端製程芯片的最先進極紫外(EUV)光刻機的唯一供應商。

如果說芯片是現代人類工業的“掌上明珠”,那麼光刻機就是將這顆“明珠”生產出來所必須具備的工具,更重要的是,阿斯麥是全球芯片廠製造最先進製程的芯片,比如3nm、5nm以及7nm芯片所需EUV光刻設備的全球唯一一家供應商。因此,台積電、英特爾以及三星等最大規模客戶對其產品的需求,可謂是芯片行業健康狀況的風向標。

英特爾耗巨資購買這一設備的核心目的在於,力爭早日實現2nm及以下最先進芯片製程路線——即英特爾所規劃的 18A、14A 和 10A 這些最先進芯片製程技術路線。“18A”等芯片製造類別,既指英特爾規劃的1.8nm級別芯片,也指英特爾所規劃的3D chiplet先進封裝工藝路線圖。

對於英特爾以及台積電正在研發的2nm及以下節點製造技術而言,阿斯麥high-NA EUV光刻機可謂非常重要。相比於阿斯麥當前生產的標準款EUV光刻機,主要區別在於使用了更大的數值孔徑,high-NA EUV技術採用0.55 NA鏡頭,能夠實現8nm級別的分辨率,而標準的EUV技術使用0.33 NA的鏡頭。

因此,這種新NA技術能夠在晶片上打印更小的特徵尺寸,對於2nm及以下芯片的製程技術研發至關重要,而對於英偉達AI GPU等用於AI訓練/推理領域的超高性能AI加速器而言,2nm及以下製程對於AI系統算力提升至關重要。目前英偉達H100/H200 AI GPU集中採用台積電4nm製程工藝,全新推出的Blackwell架構AI GPU則將採用台積電3nm製程工藝。

台積電高管直呼這款新光刻機太貴

台積電此前對這款新型EUV的價格表示擔憂。台積電台積電高級副總裁Kevin Zhang5月在阿姆斯特丹直呼high-NA EUV價格太高,他在當時還表示,台積電所謂的A16芯片節點技術(業內普遍認爲是1.6nm芯片製程工藝)將於2026年底推出,屆時有可能不需要用到阿斯麥新推出的high-NA EUV,可以繼續依賴台積電一些舊款的EUV光刻設備。“我認爲在這一點上,我們現有的EUV能力應該能夠支持新的工藝,”Kevin Zhang表示。

儘管如此,台積電一直是阿斯麥high-NA EUV項目的積極參與力量。包括Janardan Menon在內的來自傑富瑞(Jefferies)的分析師們表示,他們預計台積電將於2028年在A14這一製造節點上使用high-NA EUV。該機構的分析師們在與阿斯麥首席財務官Dassen進行的電話會議後表示,阿斯麥仍然認爲2025年總營收規模可能處於展望區間的上半部分。

傑富瑞的分析師們預計,在今年剩下的三個季度裏,阿斯麥的平均光刻機訂單規模可能將在57億歐元左右,阿斯麥管理層對於第二季度的營收展望區間則是57億-62億歐元,並且傑富瑞的分析師們預計阿斯麥2025年的總計營收規模達到400億歐元。

編輯/ruby

譯文內容由第三人軟體翻譯。


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