05月10日，光刻机概念盘中跳水，截至10点00分，光刻机概念整体指数下跌2.03%，报1427.680点。

从个股上来看，该概念的成分股中，惠伦晶体跌2.31%，奥普光电、京华激光、华亚智能跌幅居前。

从资金上来看，截止发稿，光刻机概念主力净流入为-5286.50万，其中晶方科技受到资金热捧，主力净流入6004.05万；拉长时间线来看，该板块近20日主力资金净流入-11.09亿。

（以上内容为腾讯自选股基于公开消息，由程序或算法智能生成，仅作为用户看盘参考，不作为投资建议或交易依据。股市有风险，请谨慎决策。）