证券之星消息，根据企查查数据显示国风新材（000859）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种低热膨胀系数聚酰亚胺薄膜及其制备方法”，专利申请号为CN202211510169.2，授权日为2024年5月3日。

专利摘要：本发明公开了一种低热膨胀系数聚酰亚胺薄膜膜，所述薄膜为将PDA/SiO2填料与聚酰亚胺的聚合单体在溶剂中进行原位聚合反应制得聚酰胺酸，最后经流延成膜和热处理所得，所述PDA/SiO2填料为多巴胺通过氧化自聚形成聚多巴胺沉积于二氧化硅表面，得到聚多巴胺包覆二氧化硅(PDA/SiO2)。本发明所述的PDA/SiO2填料中，PDA包覆在SiO2表面，抑制SiO2在基体中的团聚，提高分散性，PDA能够提供氨基、亚胺基等基团，增加与聚酰亚胺基体发生化学反应的活性位点，使填料与基体粘合力增加，本发明所制备的聚酰亚胺薄膜的热膨胀系数低，同时力学性能较好，具有很好的推广使用价值。

今年以来国风新材新获得专利授权19个，较去年同期增加了137.5%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了9294.63万元，同比增5.76%。

数据来源：企查查

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