来源:内容由半导体行业观察(ID:icbank)转载自ASML
$阿斯麦 (ASML.US)$ 于 1984 年 4 月 1 日成立,当时名为 ASM Lithography。这家由$飞利浦 (PHG.US)$ 和 ASM International 组成的合资企业的使命是:将飞利浦开发的晶圆步进机 PAS 2000 商业化。
围绕ASML 创立的神话,描绘了这样一幅画面:一家小型、好奇的初创公司被困在一个粘稠的棚屋里,并试图打入蓬勃发展的半导体市场。但我们是如何走到这一步的呢?ASM Lithography 的早期参与者是谁?他们为何联手组建这家新公司?
这个故事讲述了飞利浦的一个小项目如何在快速发展的半导体生态系统的边缘徘徊,然后在行业和荷兰费尔德霍芬找到自己的位置。公司的成立是新事物的开始,同时也是十年发展的延续。
1974 年,研究人员聚集在飞利浦研究院 NatLab 的 SIRE I 原型周围 01 产业的分工在 20 世纪 60 年代和 1970 年代,芯片制造商在内部构建了绝大多数半导体价值链——制造成品微芯片所需的所有步骤。随后,在 20 世纪 70 年代末和 80 年代初,半导体制造技术的规模和复杂性快速增长。这种发展推动了半导体价值链的分工。半导体设备行业的出现是为了提供现成的尖端解决方案。有了这种现成的能力,芯片制造商和用户开发自己的芯片制造设备就不再有意义。
专业设备供应商对于开发用于在微芯片上打印图案的复杂光刻系统尤其重要。改进这些系统以便它们可以打印更小的特征是推动摩尔定律的关键。对于芯片制造商来说,更多的晶体管意味着以更低的成本获得更多的计算能力。
半导体生态系统的这种转变在飞利浦等大型多元化公司的内部体现出来,这些公司需要用于各种产品和应用的芯片。他们的内部设备开发提供了高标准。然而,飞利浦内部组织不支持将其光刻技术成熟到全行业竞争水平的敏捷性、适应性和需求。相反,像飞利浦这样的大公司剥离了制造设备业务,以便在这些技术过时之前赚钱。
02 PAS 2000的雏形正是在这种背景下,飞利浦开始开发自己的晶圆步进机,用于对硅晶圆进行图案化。原型机Silicon Repeater (SIRE) I 和 II 由飞利浦研究中心开发。飞利浦自动步进机 (PAS:Philips Automated Stepper) 2000 从这些研究原型中诞生。
1980年5月SIRE II原型机照片 在飞利浦研究中心,飞利浦的部门主要专注于基础研究,晶圆步进机有点反常。市场需求日益带动企业研发,工程制造装备应用较多。从 1978 年起,飞利浦科学与工业 (S&I) 部门以 PAS2000 的名义推动了商业化工作。
从飞利浦研究中心转移到 S&I 后,开发晶圆步进机成为真正的跨学科事务。两个部门的员工都力推自己的见解和工作方法。这种合作显然可以被视为迈向现在所谓的“系统工程”的第一步。
在庞然大物飞利浦内部,PAS 2000 项目只是一项非常小的活动。尽管如此,它还是遇到了时间压力和成本增加。面对资源稀缺,时任 S&I 的副主任维姆·特鲁斯特 (Wim Troost) 利用个人可自由支配的预算来维持项目的运转。他还寻求飞利浦董事会和荷兰政府的进一步支持。
PAS 2000 的集成团队 S&I 接手该项目后,Troost 等人很快意识到,外部客户的参与对于验证技术是不可或缺的。他们无力制造仅供飞利浦内部使用的 PAS 2000。如果他们想制造自己的光刻系统,就必须与多个客户密切合作,将其商业化。
03 产业政策、投资者和企业家从 20 世纪 70 年代末开始,在欧盟委员会的指导下,西欧各国政府重塑了产业政策。他们专注于创新和协作,瞄准新兴行业,特别是快速发展的半导体行业和微电子行业。这些政策是促进经济活动的新手段,如果可能的话,可以重振陷入困境的企业集团,其中许多企业(包括飞利浦)已经开始分崩离析。
应委员会的要求,飞利浦和其他企业向各自政府表达了这些行业的重要性。从欧洲最大的电子公司收到此消息后,荷兰政府对这一主题有了进一步的理解,并为他们的后续行动提供了依据。
不断上升的成本、全球竞争和技术进步迫使大型企业剥离非核心业务并重新调整业务重点。对于飞利浦来说,其中一项活动就是他们的晶圆步进机。与此同时,新兴的风险投资公司和创业驱动的初创企业和规模化企业为工业增长提供了新的范式。
04 取得进步的压力1982 年初,飞利浦的光刻产品雄心面临重大挑战。他们需要更多的工程资源。尽管他们找到了评估工具的外部客户 IBM,但能否在 1982 年夏天及时交付仍存在很大的不确定性。飞利浦研究中心的工程师立即伸出援手。S&I 高管经常访问海牙和布鲁塞尔,寻求荷兰政府和欧盟委员会的额外资金。
在时间、资金和荷兰经济部的压力下,飞利浦 S&I 开始为其晶圆步进机寻找合作伙伴。这引致了与 Cobilt(一家制造掩模对准器和轨道的公司)的初步讨论,随后与光刻市场领导者 Perkin Elmer 进行了讨论。
与此同时,荷兰经济事务部、飞利浦和一家成长中的荷兰公司 ASM International(或简称 ASM)之间展开了三方对话。在欧盟委员会新颖的微电子计划 ESPRIT 的背景下,芯片公司对它们对美国设备的依赖表示了担忧。为了满足行业需求,该部和 Arthur Del Prado 本人提出将 ASM 作为潜在的解决方案。
作为 ASM 的创始人兼首席执行官,Del Prado 体现了新兴且流行的创业精神。他是半导体设备领域的先驱,于 1958 年首次将硅从硅谷引入欧洲。随后,他于 1981 年在纳斯达克首次公开募股,引起了轰动,这对荷兰公司来说尚属首次。Del Prado的远见和毅力通过展示高科技行业创业企业的变革潜力,推动他的公司声名鹊起。
这位企业家对飞利浦很感兴趣。他意识到大公司越来越多地通过剥离创新来降低成本。这使得他们受人尊敬的研究实验室成为事实上的“孵化器”。正如他在 1982 年 2 月所说:“我非常怀疑是否要认真努力地与光刻领域的竞争对手接触,这么晚了,与该领域的大公司合作......除非这种情况与飞利浦这样的大公司一起发生......”尽管如此,Del Prado 还是对飞利浦高管在创新方面合作的意愿表示怀疑。
几个月后,1982 年 10 月 7 日,Del Prado 了解到 PAS 2000 项目。他认为与飞利浦合作可能是他进入利润丰厚且享有盛誉的光刻市场的门票。此后不久,这位企业家表达了 ASM 的合作兴趣。该部赞同Del Prado 的观点,指出这种伙伴关系对荷兰的潜在战略利益。这种伙伴关系可能会推动荷兰在微电子领域的能力。
05 寻求伙伴关系然而,飞利浦认为 ASM 的地位太低,因此青睐 Perkin Elmer。尽管Del Prado具有企业家精神并取得了成功,但飞利浦高管仍将 ASM 视为暴发户。Perkin Elmer 是一家多元化的大型公司,拥有庞大的光刻工具安装基础,被认为是更强大的合作伙伴。
兴趣是相互的。到 20 世纪 80 年代初,晶圆步进机比 Perkin Elmer 的 Micraligns 能够以可接受的生产率对最小特征尺寸提供更多控制。在竞争加剧的情况下,这家美国公司寻求迅速巩固其市场地位。
Perkin Elmer 正在考虑与 Philips S&I 或位于列支敦士登的初创公司 Censor 合作。他们更喜欢飞利浦,理由是该公司的资源和 PAS 2000 的先进性。在拟议的合资企业中,Perkin Elmer 将发挥主导作用,负责销售和服务。飞利浦将贡献技术和制造能力。
然而,飞利浦犹豫是否授予其内部资源的访问权限,例如处于从属地位的飞利浦研究中心。这种犹豫使谈判时间过长,最终Perkin Elmer 与Censor合作。
06 工程紧迫性到 1983 年,Philips S&I 的晶圆步进机团队由大约 50 名工程师组成,面临着不确定性。他们将需要大约 1.2 亿荷兰盾(按当前定价水平计算约为 2.45 亿欧元)来升级、生产和销售该机器。尽管 Troost 竭尽全力、坚持不懈地努力,包括探索与瓦里安和$松下 (6752.JP)$ 的合作伙伴关系,但晶圆步进机小组还是来不及了。紧迫性显而易见。
受到有关 ASM 业绩的积极消息的鼓舞,S&I 技术总监 Georg de Kruyff 决定于 1983 年春天恢复与 Arthur del Prado 的讨论。在没有什么可失去的情况下,他和一些同事参观了 ASM 位于荷兰比尔托芬的总部。Del Prado非常渴望飞利浦的技术和合作伙伴关系,双方很快达成协议。
将光刻系统添加到其产品组合中将使 ASM 几乎成为半导体设备的一站式商店。这笔巨额投资几乎相当于 ASM 1982 年的全部收入。然而,飞利浦高管并不知道,Del Prado正准备在 1983 年秋天之前在纳斯达克上市更多的 ASM 股票,资金不会成为问题。
07 ASML的开始1983 年 9 月 5 日,飞利浦和 ASM 宣布了组建合资企业的意向。在接下来的几个月里,他们完善了合作伙伴关系的细节。考虑了经济部或其投资工具的股份。就进入飞利浦研究中心进行了谈判。指定了实物和现金捐助。起草了投资回报计划。一位雄心勃勃、富有远见的新总经理 Gjalt Smit上任。
重要的是,现有的 50 名飞利浦 S&I 员工获得了颇具吸引力的雇佣条款。但由于他们已经在飞利浦工作了一辈子,他们认为合资企业是飞利浦资产剥离的一种形式。人们不愿意对一家没有市场准入且关键技术必须重新设计的初创企业抱有信心。尽管如此,该小组仍有 47 人签约。
飞利浦与ASML签署合资公司 1984 年 4 月 1 日,ASM Lithography 开始运营。它最初位于飞利浦 S&I 位于埃因霍温的 Strijp TQ 大楼。这家新颖的公司注入了新的资源和竞争性的方法,重振了飞利浦进军光刻市场的努力。
ASM Lithography飞出了起跑器(ASM Lithography flew out of the starting blocks)。该合资企业得到了补充资源、相对高度的自主权、飞利浦最先进的工程实践以及鼓舞人心的技术和商业挑战等综合因素的推动。它迅速增加了更多的员工,新员工的热情很快蔓延到原来的晶圆步进团队。
起草了商业计划来升级 PAS 2000 的最大缺点:其液压晶圆台( hydraulic wafer stage)。尽管 Troost 不喜欢在半导体洁净室中使用基于石油的技术,但他早在 1980 年就选择了成熟的技术,而不是更具创新性的电气阶段。即使在当时,很明显 PAS 最终需要进行现代化改造。现在是时候让现代化早日成为现实了。
这家初创企业的规模很快就超出了其设施。通过添加一些不舒服的棚屋,这个问题暂时得到了解决。Veldhoven 被选为永久总部所在地。一座地标性建筑凸显了新公司的形象和承诺。
从一开始,ASML 就被视为创新驱动型企业家精神的体现,并有望确保荷兰未来的经济能力。年轻的企业带着冲动和热忱,踏上了充满不确定性却又充满希望的未来。
搬迁到 Veldhoven 可能是这个故事的结束,但对于 ASML 来说这只是一个开始。早期在飞利浦外棚里的日子为 ASML 成长为我们今天所知的公司奠定了基础。该团队富有创造力和决心,追求技术创新,突破可能的极限。
08 起步卑微基于 20 世纪 70 年代初以来的研发工作,同年我们推出了第一个系统:PAS 2000 步进机。
我们发展迅速,飞利浦和 ASMI 扩大了投资,帮助 ASML 取得成功。1985 年,我们带着 100 名员工搬进了位于 Veldhoven 新建的办公室和工厂,距离飞利浦研究实验室仅几公里。1986 年,我们将 PAS 2500 步进机推向市场,采用新的对准技术,这将成为我们机器未来许多创新的基础。同年,我们与镜片制造商卡尔蔡司建立了现有的合作伙伴关系。
ASML 在 Veldhoven 的第一座建筑 到了1988年,飞利浦在台湾建立了合资代工厂后,我们开始进军亚洲市场。在美国,我们的员工人数从几名增加到 84 名,分布在五个办公地点。但在市场竞争激烈、供应商众多的情况下,这家来自荷兰的名不见经传的小公司却无法突围。
ASML的客户很少,无法自力更生。更糟糕的是,股东ASMI无法维持高水平的投资,回报甚微,决定退出,而全球电子行业形势每况愈下,飞利浦宣布了大规模的成本削减计划。
我们这家年轻的、吞噬现金的光刻公司的生死存亡悬而未决。出于对正在进行的研发的坚定信念和迫切需要资金的指导,ASML 高管联系了飞利浦董事会成员 Henk Bodt,后者说服了他的同事伸出了最后的援助之手。
09 从伸出援助之手到首次公开募股这笔投资得到了很好的利用。年内,我们推出了突破性平台 PAS 5500。PAS 5500 凭借其行业领先的生产力和分辨率,吸引了 ASML 实现盈利所需的关键客户。这是走向成熟的第一步。
PAS 5500 平台的早期广告 PAS 5500 是 ASML 成名的平台。在推出之前,ASML 在光刻市场上排名第三,落后于巨头$尼康 (7731.JP)$ 和$佳能 (7751.JP)$ 。但PAS 5500平台的成功很快让ASML上升到了第二位,并为其成长为全球光刻机领导者奠定了基础。
PAS 5500 源自飞利浦研究人员在 20 世纪 70 年代发起的一系列系统。该平台的名称本身就体现了它的传统以及我们与飞利浦的长期合作关系:飞利浦自动步进器 (PAS)。
Ted Shafer 是 ASML 的长期员工,现任成熟产品销售经理,他的整个职业生涯都与这一突破性平台密切相关。
“我在 PAS 5500 推出的同一年加入了 ASML,即 1991 年,”Ted 回忆道。“我的第一份工作是担任应用工程师,负责将有史以来第一批 PAS 5500 运送到位于美国菲什基尔的 IBM。我的职责是优化系统性能并帮助客户工厂的新型系统达到生产级成熟度。”
第一个 PAS 5500 系统以及 Ted 对其优化的努力促使 IBM 推出了 System/390 系列,用他们的话来说,该系列在当时是“IBM 有史以来提供的最强大的计算机”。
凭借这些领先产品,ASML在1995年成为了一家完全独立的上市公司,在阿姆斯特丹和纽约证券交易所上市。飞利浦在首次公开募股中出售了一半的股份,并在接下来的几年中出售了剩余的股份。首次公开募股带来了进一步推动我们增长的资金,我们扩大了位于 Veldhoven De Run 的研发和生产设施,该设施后来成为我们的新总部。
10 TWINSCAN 和浸没式技术铺平了道路2001年,我们推出了TWINSCAN系统及其革命性的双阶段技术。这些系统在测量和对准下一个晶圆的同时曝光另一个晶圆,从而最大限度地提高系统的生产率和准确性,从而提高客户的所有权价值。
同年,我们完成了对Silicon Valley Group 的收购,进一步增强ASML在半导体技术进步方面的能力。TWINSCAN AT:1150i 作为第一台浸入式机器于 2003 年首次亮相,随后是 TWINSCAN XT:1250i、XT:1400i,并于 2006 年推出第一台批量生产的浸入式机器 XT:1700i。
2007 年,我们推出了数值孔径为 1.35 的 TWINSCAN XT:1900i 浸入式系统,这是业内最高规格的产品。借助这项新技术,我们使客户能够通过透镜和晶圆之间的水层投射光线来生产更小的芯片特征。
2007 年晚些时候,我们收购了 BRION,这是一家领先的半导体设计和制造优化解决方案提供商。这是我们“整体光刻”战略的开始。我们将光刻系统的知识与优化光刻之前、期间和之后芯片制造工艺的技能相结合。我们整体光刻战略早期阶段的另一个关键产品是 YieldStar,这是我们的计量系统,可在芯片制造过程中提供实时测量和校正。第一个 YieldStar (250D) 于 2008 年交付给客户。
11 用EUV再次改变时代 2010年,我们向亚洲芯片制造商的研究机构运送了第一台极紫外(EUV) 光刻工具原型(TWINSCAN NXE:3100),标志着光刻新时代的开始。EUV 光刻使用较短波长的光来制造更小的芯片特征,从而产生更快、更强大的芯片。
2013年,我们收购了位于圣地亚哥的光刻光源制造商Cymer,以加速EUV的发展。同年,我们推出了第二代 EUV 系统 (NXE:3300),随后于 2015 年推出了第三代 EUV 系统 (NXE:3350)。EUV 光刻技术在 2016 年迎来了转机,当时客户开始订购我们的第一个生产就绪系统 NXE:3400 。在此期间,我们不断提高浸没式光刻系统的性能,芯片行业的主力NXT1970Ci和NXT1980Di被安装在世界各地的客户工厂中。
2016 年,我们收购了领先的电子束计量工具供应商Hermes Microvision (HMI) ,扩大了我们的整体光刻产品组合。在我们的共同努力下,电子束图形保真度计量系统 (ePfm5) 于 2017 年首次发货。
继2018年总部位于荷兰代尔夫特的高科技公司Mapper清算后,ASML同意收购该公司的知识产权资产 。
2020 年初,EUV 进入大批量生产,我们庆祝了第 100 台 EUV 系统发货。但 2020 年的重要意义还在于另一个原因:新冠肺炎 (COVID-19) 大流行。我们遍布世界各地的团队通过创新新方式远程支持客户、利用其专业知识 应对大流行病以及伸出援手支持当地社区,证明了他们的适应能力和即兴发挥的能力。
2020年11月,完成了对Berliner Glas集团的收购 ,我们正式欢迎Berliner Glas团队加入ASML大家庭。该集团的技术玻璃部门于 2021 年 4 月剥离给 Glas Trösch 集团 。
2023 年,我们推出了第一套下一代 EUV 系统 ,其数值孔径高达 0.55(称为“高数值孔径”)。该平台称为 EXE,具有新颖的光学设计和明显更快的平台。
展望未来,ASML还将继续创造奇迹。
原文链接
https://www.asml.com/en/news/stories/2024/ASML-founding-story
https://www.asml.com/en/news/stories/2021/three-decades-of-pas-5500
https://www.asml.com/en/company/about-asml/history
编辑/emily
來源:內容由半導體行業觀察(ID:icbank)轉載自ASML
$阿斯麥 (ASML.US)$ 於 1984 年 4 月 1 日成立,當時名爲 ASM Lithography。這家由$飛利浦 (PHG.US)$ 和 ASM International 組成的合資企業的使命是:將飛利浦開發的晶圓步進機 PAS 2000 商業化。
圍繞ASML 創立的神話,描繪了這樣一幅畫面:一家小型、好奇的初創公司被困在一個粘稠的棚屋裏,並試圖打入蓬勃發展的半導體市場。但我們是如何走到這一步的呢?ASM Lithography 的早期參與者是誰?他們爲何聯手組建這家新公司?
這個故事講述了飛利浦的一個小項目如何在快速發展的半導體生態系統的邊緣徘徊,然後在行業和荷蘭費爾德霍芬找到自己的位置。公司的成立是新事物的開始,同時也是十年發展的延續。
1974 年,研究人員聚集在飛利浦研究院 NatLab 的 SIRE I 原型周圍 01 產業的分工在 20 世紀 60 年代和 1970 年代,芯片製造商在內部構建了絕大多數半導體價值鏈——製造成品微芯片所需的所有步驟。隨後,在 20 世紀 70 年代末和 80 年代初,半導體制造技術的規模和複雜性快速增長。這種發展推動了半導體價值鏈的分工。半導體設備行業的出現是爲了提供現成的尖端解決方案。有了這種現成的能力,芯片製造商和用戶開發自己的芯片製造設備就不再有意義。
專業設備供應商對於開發用於在微芯片上打印圖案的複雜光刻系統尤其重要。改進這些系統以便它們可以打印更小的特徵是推動摩爾定律的關鍵。對於芯片製造商來說,更多的晶體管意味着以更低的成本獲得更多的計算能力。
半導體生態系統的這種轉變在飛利浦等大型多元化公司的內部體現出來,這些公司需要用於各種產品和應用的芯片。他們的內部設備開發提供了高標準。然而,飛利浦內部組織不支持將其光刻技術成熟到全行業競爭水平的敏捷性、適應性和需求。相反,像飛利浦這樣的大公司剝離了製造設備業務,以便在這些技術過時之前賺錢。
02 PAS 2000的雛形正是在這種背景下,飛利浦開始開發自己的晶圓步進機,用於對硅晶圓進行圖案化。原型機Silicon Repeater (SIRE) I 和 II 由飛利浦研究中心開發。飛利浦自動步進機 (PAS:Philips Automated Stepper) 2000 從這些研究原型中誕生。
1980年5月SIRE II原型機照片 在飛利浦研究中心,飛利浦的部門主要專注於基礎研究,晶圓步進機有點反常。市場需求日益帶動企業研發,工程製造裝備應用較多。從 1978 年起,飛利浦科學與工業 (S&I) 部門以 PAS2000 的名義推動了商業化工作。
從飛利浦研究中心轉移到 S&I 後,開發晶圓步進機成爲真正的跨學科事務。兩個部門的員工都力推自己的見解和工作方法。這種合作顯然可以被視爲邁向現在所謂的“系統工程”的第一步。
在龐然大物飛利浦內部,PAS 2000 項目只是一項非常小的活動。儘管如此,它還是遇到了時間壓力和成本增加。面對資源稀缺,時任 S&I 的副主任維姆·特魯斯特 (Wim Troost) 利用個人可自由支配的預算來維持項目的運轉。他還尋求飛利浦董事會和荷蘭政府的進一步支持。
PAS 2000 的集成團隊 S&I 接手該項目後,Troost 等人很快意識到,外部客戶的參與對於驗證技術是不可或缺的。他們無力製造僅供飛利浦內部使用的 PAS 2000。如果他們想製造自己的光刻系統,就必須與多個客戶密切合作,將其商業化。
03 產業政策、投資者和企業家從 20 世紀 70 年代末開始,在歐盟委員會的指導下,西歐各國政府重塑了產業政策。他們專注於創新和協作,瞄準新興行業,特別是快速發展的半導體行業和微電子行業。這些政策是促進經濟活動的新手段,如果可能的話,可以重振陷入困境的企業集團,其中許多企業(包括飛利浦)已經開始分崩離析。
應委員會的要求,飛利浦和其他企業向各自政府表達了這些行業的重要性。從歐洲最大的電子公司收到此消息後,荷蘭政府對這一主題有了進一步的理解,併爲他們的後續行動提供了依據。
不斷上升的成本、全球競爭和技術進步迫使大型企業剝離非核心業務並重新調整業務重點。對於飛利浦來說,其中一項活動就是他們的晶圓步進機。與此同時,新興的風險投資公司和創業驅動的初創企業和規模化企業爲工業增長提供了新的範式。
04 取得進步的壓力1982 年初,飛利浦的光刻產品雄心面臨重大挑戰。他們需要更多的工程資源。儘管他們找到了評估工具的外部客戶 IBM,但能否在 1982 年夏天及時交付仍存在很大的不確定性。飛利浦研究中心的工程師立即伸出援手。S&I 高管經常訪問海牙和布魯塞爾,尋求荷蘭政府和歐盟委員會的額外資金。
在時間、資金和荷蘭經濟部的壓力下,飛利浦 S&I 開始爲其晶圓步進機尋找合作伙伴。這引致了與 Cobilt(一家制造掩模對準器和軌道的公司)的初步討論,隨後與光刻市場領導者 Perkin Elmer 進行了討論。
與此同時,荷蘭經濟事務部、飛利浦和一家成長中的荷蘭公司 ASM International(或簡稱 ASM)之間展開了三方對話。在歐盟委員會新穎的微電子計劃 ESPRIT 的背景下,芯片公司對它們對美國設備的依賴表示了擔憂。爲了滿足行業需求,該部和 Arthur Del Prado 本人提出將 ASM 作爲潛在的解決方案。
作爲 ASM 的創始人兼首席執行官,Del Prado 體現了新興且流行的創業精神。他是半導體設備領域的先驅,於 1958 年首次將硅從硅谷引入歐洲。隨後,他於 1981 年在納斯達克首次公開募股,引起了轟動,這對荷蘭公司來說尚屬首次。Del Prado的遠見和毅力通過展示高科技行業創業企業的變革潛力,推動他的公司聲名鵲起。
這位企業家對飛利浦很感興趣。他意識到大公司越來越多地通過剝離創新來降低成本。這使得他們受人尊敬的研究實驗室成爲事實上的“孵化器”。正如他在 1982 年 2 月所說:“我非常懷疑是否要認真努力地與光刻領域的競爭對手接觸,這麼晚了,與該領域的大公司合作......除非這種情況與飛利浦這樣的大公司一起發生......”儘管如此,Del Prado 還是對飛利浦高管在創新方面合作的意願表示懷疑。
幾個月後,1982 年 10 月 7 日,Del Prado 了解到 PAS 2000 項目。他認爲與飛利浦合作可能是他進入利潤豐厚且享有盛譽的光刻市場的門票。此後不久,這位企業家表達了 ASM 的合作興趣。該部贊同Del Prado 的觀點,指出這種夥伴關係對荷蘭的潛在戰略利益。這種夥伴關係可能會推動荷蘭在微電子領域的能力。
05 尋求夥伴關係然而,飛利浦認爲 ASM 的地位太低,因此青睞 Perkin Elmer。儘管Del Prado具有企業家精神並取得了成功,但飛利浦高管仍將 ASM 視爲暴發戶。Perkin Elmer 是一家多元化的大型公司,擁有龐大的光刻工具安裝基礎,被認爲是更強大的合作伙伴。
興趣是相互的。到 20 世紀 80 年代初,晶圓步進機比 Perkin Elmer 的 Micraligns 能夠以可接受的生產率對最小特徵尺寸提供更多控制。在競爭加劇的情況下,這家美國公司尋求迅速鞏固其市場地位。
Perkin Elmer 正在考慮與 Philips S&I 或位於列支敦士登的初創公司 Censor 合作。他們更喜歡飛利浦,理由是該公司的資源和 PAS 2000 的先進性。在擬議的合資企業中,Perkin Elmer 將發揮主導作用,負責銷售和服務。飛利浦將貢獻技術和製造能力。
然而,飛利浦猶豫是否授予其內部資源的訪問權限,例如處於從屬地位的飛利浦研究中心。這種猶豫使談判時間過長,最終Perkin Elmer 與Censor合作。
06 工程緊迫性到 1983 年,Philips S&I 的晶圓步進機團隊由大約 50 名工程師組成,面臨着不確定性。他們將需要大約 1.2 億荷蘭盾(按當前定價水平計算約爲 2.45 億歐元)來升級、生產和銷售該機器。儘管 Troost 竭盡全力、堅持不懈地努力,包括探索與瓦里安和$松下 (6752.JP)$ 的合作伙伴關係,但晶圓步進機小組還是來不及了。緊迫性顯而易見。
受到有關 ASM 業績的積極消息的鼓舞,S&I 技術總監 Georg de Kruyff 決定於 1983 年春天恢復與 Arthur del Prado 的討論。在沒有什麼可失去的情況下,他和一些同事參觀了 ASM 位於荷蘭比爾託芬的總部。Del Prado非常渴望飛利浦的技術和合作夥伴關係,雙方很快達成協議。
將光刻系統添加到其產品組合中將使 ASM 幾乎成爲半導體設備的一站式商店。這筆巨額投資幾乎相當於 ASM 1982 年的全部收入。然而,飛利浦高管並不知道,Del Prado正準備在 1983 年秋天之前在納斯達克上市更多的 ASM 股票,資金不會成爲問題。
07 ASML的開始1983 年 9 月 5 日,飛利浦和 ASM 宣佈了組建合資企業的意向。在接下來的幾個月裏,他們完善了合作伙伴關係的細節。考慮了經濟部或其投資工具的股份。就進入飛利浦研究中心進行了談判。指定了實物和現金捐助。起草了投資回報計劃。一位雄心勃勃、富有遠見的新總經理 Gjalt Smit上任。
重要的是,現有的 50 名飛利浦 S&I 員工獲得了頗具吸引力的僱傭條款。但由於他們已經在飛利浦工作了一輩子,他們認爲合資企業是飛利浦資產剝離的一種形式。人們不願意對一家沒有市場準入且關鍵技術必須重新設計的初創企業抱有信心。儘管如此,該小組仍有 47 人簽約。
飛利浦與ASML簽署合資公司 1984 年 4 月 1 日,ASM Lithography 開始運營。它最初位於飛利浦 S&I 位於埃因霍溫的 Strijp TQ 大樓。這家新穎的公司注入了新的資源和競爭性的方法,重振了飛利浦進軍光刻市場的努力。
ASM Lithography飛出了起跑器(ASM Lithography flew out of the starting blocks)。該合資企業得到了補充資源、相對高度的自主權、飛利浦最先進的工程實踐以及鼓舞人心的技術和商業挑戰等綜合因素的推動。它迅速增加了更多的員工,新員工的熱情很快蔓延到原來的晶圓步進團隊。
起草了商業計劃來升級 PAS 2000 的最大缺點:其液壓晶圓臺( hydraulic wafer stage)。儘管 Troost 不喜歡在半導體潔淨室中使用基於石油的技術,但他早在 1980 年就選擇了成熟的技術,而不是更具創新性的電氣階段。即使在當時,很明顯 PAS 最終需要進行現代化改造。現在是時候讓現代化早日成爲現實了。
這家初創企業的規模很快就超出了其設施。通過添加一些不舒服的棚屋,這個問題暫時得到了解決。Veldhoven 被選爲永久總部所在地。一座地標性建築凸顯了新公司的形象和承諾。
從一開始,ASML 就被視爲創新驅動型企業家精神的體現,並有望確保荷蘭未來的經濟能力。年輕的企業帶着衝動和熱忱,踏上了充滿不確定性卻又充滿希望的未來。
搬遷到 Veldhoven 可能是這個故事的結束,但對於 ASML 來說這只是一個開始。早期在飛利浦外棚裏的日子爲 ASML 成長爲我們今天所知的公司奠定了基礎。該團隊富有創造力和決心,追求技術創新,突破可能的極限。
08 起步卑微基於 20 世紀 70 年代初以來的研發工作,同年我們推出了第一個系統:PAS 2000 步進機。
我們發展迅速,飛利浦和 ASMI 擴大了投資,幫助 ASML 取得成功。1985 年,我們帶着 100 名員工搬進了位於 Veldhoven 新建的辦公室和工廠,距離飛利浦研究實驗室僅幾公里。1986 年,我們將 PAS 2500 步進機推向市場,採用新的對準技術,這將成爲我們機器未來許多創新的基礎。同年,我們與鏡片製造商卡爾蔡司建立了現有的合作伙伴關係。
ASML 在 Veldhoven 的第一座建築 到了1988年,飛利浦在臺灣建立了合資代工廠後,我們開始進軍亞洲市場。在美國,我們的員工人數從幾名增加到 84 名,分佈在五個辦公地點。但在市場競爭激烈、供應商衆多的情況下,這家來自荷蘭的名不見經傳的小公司卻無法突圍。
ASML的客戶很少,無法自力更生。更糟糕的是,股東ASMI無法維持高水平的投資,回報甚微,決定退出,而全球電子行業形勢每況愈下,飛利浦宣佈了大規模的成本削減計劃。
我們這家年輕的、吞噬現金的光刻公司的生死存亡懸而未決。出於對正在進行的研發的堅定信念和迫切需要資金的指導,ASML 高管聯繫了飛利浦董事會成員 Henk Bodt,後者說服了他的同事伸出了最後的援助之手。
09 從伸出援助之手到首次公開募股這筆投資得到了很好的利用。年內,我們推出了突破性平台 PAS 5500。PAS 5500 憑藉其行業領先的生產力和分辨率,吸引了 ASML 實現盈利所需的關鍵客戶。這是走向成熟的第一步。
PAS 5500 平台的早期廣告 PAS 5500 是 ASML 成名的平台。在推出之前,ASML 在光刻市場上排名第三,落後於巨頭$尼康 (7731.JP)$ 和$佳能 (7751.JP)$ 。但PAS 5500平台的成功很快讓ASML上升到了第二位,併爲其成長爲全球光刻機領導者奠定了基礎。
PAS 5500 源自飛利浦研究人員在 20 世紀 70 年代發起的一系列系統。該平台的名稱本身就體現了它的傳統以及我們與飛利浦的長期合作關係:飛利浦自動步進器 (PAS)。
Ted Shafer 是 ASML 的長期員工,現任成熟產品銷售經理,他的整個職業生涯都與這一突破性平台密切相關。
“我在 PAS 5500 推出的同一年加入了 ASML,即 1991 年,”Ted 回憶道。“我的第一份工作是擔任應用工程師,負責將有史以來第一批 PAS 5500 運送到位於美國菲什基爾的 IBM。我的職責是優化系統性能並幫助客戶工廠的新型系統達到生產級成熟度。”
第一個 PAS 5500 系統以及 Ted 對其優化的努力促使 IBM 推出了 System/390 系列,用他們的話來說,該系列在當時是“IBM 有史以來提供的最強大的計算機”。
憑藉這些領先產品,ASML在1995年成爲了一家完全獨立的上市公司,在阿姆斯特丹和紐約證券交易所上市。飛利浦在首次公開募股中出售了一半的股份,並在接下來的幾年中出售了剩餘的股份。首次公開募股帶來了進一步推動我們增長的資金,我們擴大了位於 Veldhoven De Run 的研發和生產設施,該設施後來成爲我們的新總部。
10 TWINSCAN 和浸沒式技術鋪平了道路2001年,我們推出了TWINSCAN系統及其革命性的雙階段技術。這些系統在測量和對準下一個晶圓的同時曝光另一個晶圓,從而最大限度地提高系統的生產率和準確性,從而提高客戶的所有權價值。
同年,我們完成了對Silicon Valley Group 的收購,進一步增強ASML在半導體技術進步方面的能力。TWINSCAN AT:1150i 作爲第一臺浸入式機器於 2003 年首次亮相,隨後是 TWINSCAN XT:1250i、XT:1400i,並於 2006 年推出第一臺批量生產的浸入式機器 XT:1700i。
2007 年,我們推出了數值孔徑爲 1.35 的 TWINSCAN XT:1900i 浸入式系統,這是業內最高規格的產品。藉助這項新技術,我們使客戶能夠通過透鏡和晶圓之間的水層投射光線來生產更小的芯片特徵。
2007 年晚些時候,我們收購了 BRION,這是一家領先的半導體設計和製造優化解決方案提供商。這是我們“整體光刻”戰略的開始。我們將光刻系統的知識與優化光刻之前、期間和之後芯片製造工藝的技能相結合。我們整體光刻戰略早期階段的另一個關鍵產品是 YieldStar,這是我們的計量系統,可在芯片製造過程中提供實時測量和校正。第一個 YieldStar (250D) 於 2008 年交付給客戶。
11 用EUV再次改變時代 2010年,我們向亞洲芯片製造商的研究機構運送了第一臺極紫外(EUV) 光刻工具原型(TWINSCAN NXE:3100),標誌着光刻新時代的開始。EUV 光刻使用較短波長的光來製造更小的芯片特徵,從而產生更快、更強大的芯片。
2013年,我們收購了位於聖地亞哥的光刻光源製造商Cymer,以加速EUV的發展。同年,我們推出了第二代 EUV 系統 (NXE:3300),隨後於 2015 年推出了第三代 EUV 系統 (NXE:3350)。EUV 光刻技術在 2016 年迎來了轉機,當時客戶開始訂購我們的第一個生產就緒系統 NXE:3400 。在此期間,我們不斷提高浸沒式光刻系統的性能,芯片行業的主力NXT1970Ci和NXT1980Di被安裝在世界各地的客戶工廠中。
2016 年,我們收購了領先的電子束計量工具供應商Hermes Microvision (HMI) ,擴大了我們的整體光刻產品組合。在我們的共同努力下,電子束圖形保真度計量系統 (ePfm5) 於 2017 年首次發貨。
繼2018年總部位於荷蘭代爾夫特的高科技公司Mapper清算後,ASML同意收購該公司的知識產權資產 。
2020 年初,EUV 進入大批量生產,我們慶祝了第 100 臺 EUV 系統發貨。但 2020 年的重要意義還在於另一個原因:新冠肺炎 (COVID-19) 大流行。我們遍佈世界各地的團隊通過創新新方式遠程支持客戶、利用其專業知識 應對大流行病以及伸出援手支持當地社區,證明了他們的適應能力和即興發揮的能力。
2020年11月,完成了對Berliner Glas集團的收購 ,我們正式歡迎Berliner Glas團隊加入ASML大家庭。該集團的技術玻璃部門於 2021 年 4 月剝離給 Glas Trösch 集團 。
2023 年,我們推出了第一套下一代 EUV 系統 ,其數值孔徑高達 0.55(稱爲“高數值孔徑”)。該平台稱爲 EXE,具有新穎的光學設計和明顯更快的平台。
展望未來,ASML還將繼續創造奇蹟。
原文鏈接
https://www.asml.com/en/news/stories/2024/ASML-founding-story
https://www.asml.com/en/news/stories/2021/three-decades-of-pas-5500
https://www.asml.com/en/company/about-asml/history
編輯/emily