來源：格隆匯
關於芯片光刻機，今日市場突然傳來一則大消息，荷蘭半導體設備製造商ASML阿斯麥或推出中國特供版DUV光刻機。
不過緊隨其後，ASML便火速回應稱：一直以來都遵守所適用的法律條例，公司並沒有面向中國市場推出特別版的光刻機。
ASML否認推出 中國特供版DUV光刻機
此前，根據DigiTimes報道，ASML試圖規避荷蘭新銷售許可禁令，面向中國市場推出特別版DUV光刻機。
消息稱，ASML正在考慮發佈其深紫外光刻（DUV）工具的特殊版本，該工具將符合最新的美國出口規則，並且可以在沒有許可證的情況下運送給中國客戶。
如果該項目繼續推進，中芯國際、華虹等中國半導體企業可以繼續使用荷蘭的設備生產28納米及更成熟工藝的芯片。
據悉，這款特別版DUV光刻機是基於ASML的Twinscan NXT: 1980Di光刻系統進行改造的。
而Twinscan NXT: 1980Di光刻系統是ASML在10年前推出的一款舊型號，因此不在此次荷蘭官方禁令的限制範圍內。
Twinscan NXT: 1980Di光刻系統是ASML目前效率相對較低的光刻機型之一，它支持NA 1.35光學器件，分辨率可達到小於38納米，這對於7nm級甚至更高級的節點來說已經足夠了。事實上，這款機器最初於2016年發佈，臺積電曾使用它來開發其7nm級工藝技術。
目前大多數晶圓廠使用1980Di光刻機主要生產14納米及更高工藝的芯片，而很少使用它來生產7納米芯片。
報道表示，儘管ASML的特別版DUV光刻機是基於舊型號改造，但此次行動也將被視爲一種規避荷蘭新銷售許可禁令的嘗試。
不過就在傳聞迅速發酵之際，ASML針對傳聞火速回應表示：一直以來 ASML 都遵守所適用的法律條例，公司並沒有面向中國市場推出特別版的光刻機。
荷蘭出口管制新規
6月30 日，荷蘭政府正式頒佈了有關半導體設備出口管制的新條例，其要求先進芯片製造設備的公司在出口之前須獲得許可證，這些規定將於9月1日生效。
正如3月初宣佈的那樣，新的出口管制側重於先進的芯片製造技術，包括最先進的沉積和浸沒式光刻系統。
在荷蘭新規出臺之後，ASML曾回應表示，根據新出口管制條例規定，ASML需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統（即TWINSCAN NXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統）。
荷蘭政府將決定是否授予或拒發出口許可證，並將向ASML提供許可證所附條件的細節。
ASML在聲明中重點指出，荷蘭政府新頒佈的出口管制條例只涉及TWINSCAN NXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統（DUV，深紫外光刻）。
而該公司的EUV光刻（極紫外光刻）系統在此前已經受到限制，其他系統的發運暫未受荷蘭政府管控。
“ASML將繼續遵守適用的出口管制條例，其中包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。”
據ASML財報顯示，2022年該公司共出貨345臺光刻系統，其中有81臺浸潤式DUV光刻機（ArFi），佔比爲23%。所有產品中，42%銷往中國臺灣，29%銷往韓國，14%銷往中國大陸，7%銷往美國。
編輯/Jeffrey