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東京応化工業:10 nmの限界を突破!線幅7.6 nmの半導体微細加工を可能にする高分子ブロック共重合体の開発に成功

東京應化工業:突破了10納米的極限!成功開發出能實現線寬爲7.6納米的高分子塊共聚物微細加工。

日本交易所 ·  08/22 13:00

譯文內容由第三人軟體翻譯。


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