據報道，三星專注於提高良率，而SK海力士則專注於長期技術進步。韓國兩大半導體巨頭三星電子和SK海力士在極紫外（EUV）光刻技術上採取了不同的策略，引起了業界的高度關注。作爲年終組織重組的一部分，三星電子在全球製造和基礎設施總部下成立了一個新的工作組（TF），名爲「EUV Synergy TF」。此舉被視爲提高超精細半導體製造（例如 3 納米 (nm) 代工廠）良率的努力。相比之下，SK海力士則採取了不同的做法。該公司在今年的組織重組中解散了EUV TF，並將其併入未來技術研究院。此舉凸顯了 SK 海力士對長期技術進步的關注，而不是眼前產量的提高。SK 海力士於 2021 年開始將 EUV 應用於其 10 納米級第四代 DRAM，目前在利川的 M16 工廠運營着 10 多臺 EUV 機器。
三星和SK海力士在EUV光刻技术领域分道扬镳
三星和SK海力士在EUV光刻技術領域分道揚鑣
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