光刻机概念18日盘中强势拉升，截至发稿，同飞股份、波长光电20%涨停，蓝英装备涨超10%，海立股份、凯美特气、张江高科、京华激光等均涨停，新莱应材、容大感光、南大光电等涨超4%。

消息面上，为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同，工业和信息化部近日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》，其中在电子专用装备目录下，“集成电路生产装备”包括氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。

此外，据国家知识产权局专利公告，9月10日上海微电子公布一则发明专利《极紫外辐射发生装置及光刻设备》，内容涉及极紫外辐射(EUV)发生装置及光刻设备。

据悉，EUV光刻机采用13.5nm波长的极紫外光，可实现8nm的曝光分辨率，用于先进制程芯片制造;其技术难点在于光学系统、光源等关键子系统。本次上海微电子披露的专利主要涉及EUV光源和光刻设备，其中重点的极紫外辐射发生器(光源)主要包括腔体、靶材发生器、激光发生器、收集镜、电极板、气控部件等关键部件。

民生证券指出，海外半导体设备供给持续高增满足短期扩产需求，国产光刻机技术亦在持续突破，利好半导体设备自主可控的长期发展，继续看好国内晶圆厂的投资增长和国产半导体设备的国产化机遇，建议关注：北方华创、中微公司、拓荆科技、中科飞测、精测电子、芯源微、华海清科等。