公司發佈化學清洗機新產品，打造新的增長點。2024 年3 月19 日芯源微發佈KCE 前道單片式化學清洗機，該款機臺由公司上海臨港子公司自主研發，具有高工藝覆蓋性、高穩定性、高潔淨度、高產能、高智能化等多重優勢，適用於薄膜前後的清洗、幹法蝕刻後清洗、離子注入灰化後清洗、CMP 後清洗等多種清洗工藝，能夠滿足客戶對於UP Time、刻蝕一致性等穩定性指標的嚴苛要求。
同時，機臺還充分借鑑了公司在前道Track 及Scrubber 等領域的成熟技術，通過不斷優化內部單元及整機設計，可有效確保機臺內部微環境均勻穩定，並最大程度壓縮chamber 空間，推出的高產能架構能夠助力客戶實現清洗效率的顯著提升。此外，機臺還配備多項智能化功能，實現AI 賦能。本次推出的前道單片式化學清洗機新品，將有效彌補公司在前道單片式化學清洗領域的空白，實現“物理+化學”清洗雙覆蓋，爲公司打造新的業績增長點。
前道Track 設備技術不斷進步，下游客戶導入進展良好。2023 年公司在浸沒式高產能塗膠顯影機平台架構及內部腔體單元上進行了進一步的優化和完善，全新的熱盤快速降溫技術在熱盤單元烘烤溫度切換過程中實現了降溫時間的大幅縮短，提升了熱盤處理效率，整機產能得到了提升；旋塗省膠技術應用了基於大量客戶端量產數據模型下生成的核心函數控制系統，實現了塗膠工藝中的光刻膠旋塗精準控制，可爲客戶大量節約光刻膠成本。
在2023 年前道晶圓廠擴產節奏有所放緩的情況下，公司前道Track（塗膠顯影機）新簽訂單依然保持了較好的增長，實現了國內市佔率的穩步提升，目前公司offline、I-line、KrF 產品商業競爭力已逐步凸顯，工藝處理能力、穩定性等與進口機臺的差距不斷縮小，浸沒式高產能Track 下游客戶端導入評估和應用進展良好。
展望2024 年，下游前道晶圓廠復甦跡象已愈發明顯，同時疊加公司前道Track在國內晶圓廠份額的持續提升，以及化學清洗機、臨時鍵合機等新產品的不斷推出和放量，公司對2024 年簽單持較爲積極的態度。
盈利預測、估值與評級：考慮到後道封裝環節復甦較弱，我們下修公司2023-2025年歸母淨利潤爲2.51、3.58 和4.91 億元（下修11.31%、10.50%和11.21%），當前市值對應2024-2025 年PE 分別爲38/27 倍。我們看好國產半導體設備需求，維持公司“買入”評級。
風險提示：行業景氣恢復不及預期；行業競爭加劇。